题目内容


浓硫酸和2 mol/L的稀硫酸，在实验室中敞口放置．它们的质量和放置天数的关系如图所示，分析a、b曲线变化的原因是                          (　　)

A．a升华、b冷凝

B．a挥发、b吸水

C．a蒸发、b潮解

D．a冷凝、b吸水


【答案】B


练习册系列答案
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1．下列溶液一定呈中性的是(　　)

A．pH＝7的溶液

B．[H＋]＝[OH－]的溶液

C．由强酸、强碱等物质的量反应得到的溶液

D．非电解质溶于水得到的溶液

有NaCl、FeCl2、FeCl3、MgCl2、AlCl3五种溶液，用一种试剂就可把它们鉴别开来，这种试剂是(　　)

A．盐酸      B．烧碱溶液       C．氨水      D．KSCN溶液

科学家提出硅是“21世纪的能源”，这主要是由于作为半导体材料的硅在太阳能发电过程中具有重要的作用。下列关于硅的说法中正确的是  (    )

A．自然界硅的贮量丰富             B．自然界中存在大量单质硅

C．二氧化硅被用于制作计算机芯片  D．光导纤维的主要成分是Si


硅单质及其化合物应用范围很广．

（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅．

Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450℃～500℃条件下反应制得SiCl4

Ⅲ.SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100℃～1200℃条件下反应制得纯硅

已知SiCl4沸点为57.6℃，能与H2O强烈反应.1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ.

请回答下列问题：

①第Ⅲ步反应的热化学方程式是______________________________________

_______________________________________________________________________。

②整个制备纯硅的过程中必须严格控制无水无氧．SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是____________；H2还原SiCl4过程中若混入O2，可能引起的后果是____________．

③上述生产过程所需氯气和氢气均由氯碱厂提供，氯碱厂的基本设备是离子交换膜电解槽(如图所示)，其中进入阳极室的溶液是__________________________________，b电极上的电极

反应式是______________________________________________________．

（2）二氧化硅被大量用于生产玻璃．工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示，则其中x＝________。

下列说法正确的是  （    ）

A． 浓硝酸和浓硫酸露置于空气中，容器内酸液的浓度都降低

B． 可用铁制容器储存稀硝酸

C． SO2溶于水生成H2SO4        

D． SO2通入BaCl2溶液中能产生白色沉淀

在某温度时，测得纯水中的[H＋]＝2.0×10－7 mol·L－1，则[OH－]为(　　)

A．2.0×10－7 mol·L－1

B．0.1×10－7 mol·L－1

C．1.0×10－14/2.0×10－7 mol·L－1

D．无法确定

以Pt为电极，电解含有0.10 mol M+和0.10 mol N3+(M+、N3+均为金属阳离子)的溶液，阴极析出金属单质或气体的总物质的量(y)与导线中通过电子的物质的量(x)的关系如图。对离子氧化能力的强弱判断正确的是(选项中H+为氢离子)(   )

A.M+＞H+＞N3+                         B.M+＞N3+＞H+

C.N3+＞H+＞M+                         D.条件不足，无法确定

用惰性电极电解下列溶液一段时间后再加入一定量的某种纯净物(方括号内的物质)，能使溶液恢复到原来的成分和浓度的是(　　)

A．AgNO3[AgNO3]     B．NaOH[H2O]        C．KCl[KCl]   D．CuSO4[Cu(OH)2]

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