题目内容
硅单质及其化合物应用范围很广。
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅：
Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃～500 ℃ 反应制得SiCl4
Ⅲ. SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅
已知SiCl4沸点为57.6 ℃，能与H2O强烈反应。1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题：
① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为 ，第Ⅲ步反应的热化学方程式是 。
②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是 ；H2还原SiCl4过程中若混O2，可能引起的后果是 。
（2）二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示，则其中x＝ 。
（1）工业上用碳在高温下与二氧化硅反应制取粗硅。反应的化学方程式为：
SiO2+2CSi+2CO↑，在该反应中氧化剂是_____________________________，被氧化
的物质与被还原的物质的物质的量之比是____________________________。
（2）请写出铜和稀硝酸反应的化学方程式： ，若制得标准状况下的气体 4.48L，则参加反应的硝酸的物质的量为________ mol，转移电子的物质的量为________ mol．
硅单质及其化合物应用范围很广。（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅：Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃～500 ℃ 反应制得SiCl4Ⅲ. SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅已知SiCl4沸点为57.6 ℃，能与H2O强烈反应。1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题：① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为 ，第Ⅲ步反应的热化学方程式是 。②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是 ；H2还原SiCl4过程中若混O2，可能引起的后果是 。（2）二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示，则其中x＝ 。
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iCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅
。