题目内容
在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液（含有Fe2+、Fe3+、Cu
2+）处理和资源回收很有意义，下列是回收金属铜和刻蚀液再生的流程图，回答下列问题：
（1）沉淀A中含有的单质是 。
（2）通入的气体C的化学式是 。
（3）滤液与气体C反应生成刻蚀液的离子方程式： 。
练习册系列答案
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题目内容
在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液（含有Fe2+、Fe3+、Cu2+）处理和资源回收很有意义，下列是回收金属铜和刻蚀液再生的流程图，回答下列问题：
（1）沉淀A中含有的单质是 。
（2）通入的气体C的化学式是 。
（3）滤液与气体C反应生成刻蚀液的离子方程式： 。
2Li2O，则钠与氧气反应：4Na+O2
_____。
正确的是____________（填字母序号）。
4Cl属于离子化合物，该物质中只存在离子键
金属，在相同状况下它的密度是氢气的13倍，则A的名称是 ；
M
2时，正逆反应速率相等，达到平衡