题目内容
晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用过量的碳还原二氧化硅制得粗硅，同时得到一种可燃性气体；
② 粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiCl3（Si+ 3HCl
SiCl3 + H2）
③ SiHC13与过量的H2在1100～1200℃的温度下反应制得纯硅，已知SiHCi3。能与水剧烈反应，在空气中易自燃。
请回答：
（1）第一步制取粗硅的化学反应方程式为_________。
（2）粗硅与HCl气体反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3（沸点33.0℃ ）中含有少量SiC14 （沸点57.6℃）和HCl（沸点-84.7℃），提纯SiHC13采用的方法为________。
（3）实验室用SiHCl3 与过量的H2反应制取纯硅装置如图所示（加热和夹持装置略去）：
①装置B中的试剂是___________，装置C中的烧杯需要加热，目的是___________。
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是___________，装置D不能采用普通玻璃管的原因是___________，装置D中发生反应的化学方程式是___________。
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及___________。
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2C(g)+2D(g)来说，下列四种不同情况下的反应速率最快的是部分弱酸的电离平衡常数如下表：
弱酸 | HCOOH | HCN | H2CO3 |
电离平衡常数（25℃） | 1.77×10-4 | 4.9×10-16 | K1=4.3×10-7 K2=5.6×10-11 |
下列选项错误的是（ ）
A．2CN-+H2O+CO2=2HCN+CO32-
B．2HCOOH+CO32-=2HCOO-+H2O+CO2↑
C．中和等体积、等pH的HCOOH和HCN消耗NaOH的量前者小于后者
D．HCOOH+CN-=HCOO-+HCN
，NH4Cl的电子式为