题目内容
光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图
所示,下列有关说法正确的是 ( )
A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2
B.发生加成反应时1 mol该物质可消耗4molH2
C.该物质可稳定存在于碱性溶液中 D.该物质可经过缩聚反应制得
A
练习册系列答案
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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图
所示,下列有关说法正确的是 ( )
A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2
B.发生加成反应时1 mol该物质可消耗4molH2
C.该物质可稳定存在于碱性溶液中 D.该物质可经过缩聚反应制得
A