题目内容

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂和产物略去):

已知:

Ⅰ.(R,R’为烃基或氢)

Ⅱ. (R,R’为烃基)

(1)A分子中含氧官能团名称为 。

(2)C物质可发生的反应类型为 (填字母序号)。

a.加聚反应 b. 酯化反应 c. 还原反应 d.缩聚反应

(3)B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为 。

(4)乙炔和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为 。

(5)与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有 种,写出其中的一种同分异构体的结构简式为 。

(6)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。

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