题目内容
13.在半导体工业中有这样一句行话:“从沙滩到用户”.高纯硅是电子信息工业的关键材料,目前我国制备高纯硅主要采用三氯氢硅氢还原法,其主要工艺流程如图所示:(1)在制取粗硅的反应①中,焦炭的作用是作还原剂;制取高纯硅的反应⑤的反应类型是置换反应.
(2)在反应①中得到的粗硅含有铁、铝、碳等杂质,酸浸的目的是除去铁、铝等金属杂质.
(3)精馏原理和蒸馏原理相同,该原理是利用混合物中各组分的沸点不同,用加热的方法将不同沸点物质分离.
(4)写出反应①和反应③的化学方程式:
反应①SiO2+2C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO;
反应③Si+3HCl$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$SiHCl3+H2.
分析 硅石在高温下与碳发生反应得到粗硅,粗硅的主要成分为硅,粗硅经酸浸得到工业粗硅,在干燥HCl氛围中加热得到SiHCl3,然后精馏得到纯净的SiHCl3,在高温下与氢气反应可生成硅,为高纯硅,结合对应物质的性质以及题目要求解答该题.
解答 解:(1)碳和二氧化硅反应生成硅,碳起到还原剂的作用,制取高纯硅的反应⑤中氢气置换出硅,为置换反应,故答案为:作还原剂;置换反应;
(2)在反应①中得到的粗硅含有铁、铝、碳等杂质,加入酸,可除去铁、铝等金属杂质,故答案为:除去铁、铝等金属杂质;
(3)精馏与蒸馏原理一样,都是利用混合物中各组分的沸点不同,用加热的方法将不同沸点物质分离,故答案为:利用混合物中各组分的沸点不同,用加热的方法将不同沸点物质分离;
(4)反应①为SiO2+2C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO,反应③为Si+3HCl $\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$SiHCl3+H2,故答案为:SiO2+2C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO;Si+3HCl $\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$SiHCl3+H2.
点评 本题考查了制备实验方案设计的有关知识,为高频考点,侧重考查了硅及其化合物的有关知识,注意粗硅的提纯反应原理,题目难度中等,题目有利于培养学生的分析能力和实验能力.
练习册系列答案
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| A. | -332 | B. | +130 | C. | +332 | D. | -l30 |
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有多种同分异构体,其中属于酯类且含有苯环结构的共有( )
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