题目内容

三硅酸镁(Mg₂Si₃O₈)被用来治疗胃酸过多、胃溃疡，是因为该物质不溶于水，服用后能中和胃酸，作用持久．写出它中和胃酸(HCl)的化学方程式(生成都只含有两种元素的化合物)．

答案：
解析：

　　直接书写化学反应方程式比较困难，可以先将三硅酸镁的化学式改写为氧化物形式：2MgO·3SiO₂·nH₂O，这样有利于帮助我们正确书写化学反应方程式．观察知，只有MgO能够与HCl反应，那么，三硅酸镁与HCl反应的化学方程式为：

　　Mg₂Si₃O₈＋4HCl2MgCl₂＋3SiO₂＋2H₂O

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（2013?海淀区二模）氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．为生成氮化硅膜，可以用NH₃和SiH₄（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜：
3SiH₄+4NH₃

Si₃N₄+12H₂
（1）以硅化镁为原料制备硅烷的反应和工业流程如下：

反应原理：4NH₄Cl+Mg₂Si

4NH₃↑+SiH₄↑+2MgCl₂（△H＜0）
①NH₄Cl的化学键类型有

极性键（或共价键）、离子键

极性键（或共价键）、离子键

，SiH₄电子式为

．
②上述生产硅烷的过程中液氨的作用是

吸收热量，保证反应在常温下进行（答“制冷”或“降温”均可）

吸收热量，保证反应在常温下进行（答“制冷”或“降温”均可）

．
③氨气也是重要的工业原料，写出氨气发生催化氧化反应生成NO的化学方程式

，实验室可利用如图所示装置完成该反应．
在实验过程中，除观察到锥形瓶中产生红棕色气体外，还可观察到有白烟生成，白烟的主要成分是

NH₄NO₃（或：硝酸铵）

NH₄NO₃（或：硝酸铵）

．
（2）三硅酸镁（Mg₂Si₃O₈?nH₂O）难溶于水，在医药上可做抗酸剂．它除了可以中和胃液中多余酸之外，生成的H₂SiO₃还可覆盖在有溃疡的胃表面，保护其不再受刺激．三硅酸镁与盐酸反应的化学方程式为

MgSi₃O₈?nH₂O+4HCl═2MgCl₂+3SiO₂+（n+2）H₂O

MgSi₃O₈?nH₂O+4HCl═2MgCl₂+3SiO₂+（n+2）H₂O

．将0.184g三硅酸镁加到50mL 0.1mol/L盐酸中，充分反应后，滤去沉淀，以甲基橙为指示剂，用0.1mol/L NaOH溶液滴定剩余的盐酸，消耗NaOH溶液30mL，则Mg₂Si₃O₈?nH₂O的n值为

．（注：Mg₂Si₃O₈的摩尔质量为260g/mol）

我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法．由于三氯氢硅还原法具有一定优点，被广泛应用．其简化的工艺流程如图所示：

反应①：Si（粗）+3HCl（g）

SiHCl₃（l）+H₂（g）
反应②：SiHCl₃+H₂

Si（纯）+3HCl
（1）制备三氯氢硅的反应为：Si（s）+3HCl（g）═SiHCl₃（g）+H₂（g）；△H=-210kJ?mol^-1．伴随的副反应有：Si（s）+4HCl（g）═SiCl₄（g）+2H₂（g）；△H=-241kJ?mol^-1．SiCl₄在一定条件下与H₂反应可转化为SiHCl₃，反应的热化学方程式为：SiCl₄（g）+H₂（g）═SiHCl₃（g）+HCl（g）；△H=

．
（2）假设在每一轮次的投料生产中，硅元素没有损失，反应①HCl中的利用率为75%，反应②中和H₂的利用率为80%．则在下一轮次的生产中，需补充投入HCl和H₂的体积比是

．
（3）由于SiH₄具有易提纯的特点，因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法．工业上广泛采用的合成硅烷方法是让硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷，化学方程式是

Mg₂Si+4NH₄Cl═SiH₄↑+2MgCl₂+4NH₃↑

Mg₂Si+4NH₄Cl═SiH₄↑+2MgCl₂+4NH₃↑

；
整个制备过程必须严格控制无水，否则反应将不能生成硅烷，而是生成硅酸和氢气等，其化学方程式为

Mg₂Si+4NH₄Cl+3H₂O═2MgCl₂+H₂SiO₃+4NH₃↑+4H₂↑

Mg₂Si+4NH₄Cl+3H₂O═2MgCl₂+H₂SiO₃+4NH₃↑+4H₂↑

；
整个系统还必须与氧隔绝，其原因是

由于硅烷在空气中易燃，浓度高时容易发生爆炸

由于硅烷在空气中易燃，浓度高时容易发生爆炸

（4）若将硅棒与铁棒用导线相连浸在氢氧化钠溶液中构成原电池，则负极的电极反应式为：

Si+6OH^--4e^-=SiO₃^2-+3H₂O

Si+6OH^--4e^-=SiO₃^2-+3H₂O

（5）硅能用于合成硅橡胶，右图是硅橡胶中的一种，其主要优点是玻璃化温度低，耐辐射性能好，则该硅橡胶的化学式为

（C₂₄H₁₈SiO₂）_n

（C₂₄H₁₈SiO₂）_n

氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．为生成氮化硅膜，可以用NH₃和SiH₄（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜：
3SiH₄+4NH₃ $数学公式$ Si₃N₄+12H₂
（1）以硅化镁为原料制备硅烷的反应和工业流程如下：

反应原理：4NH₄Cl+Mg₂Si $数学公式$ 4NH₃↑+SiH₄↑+2MgCl₂（△H＜0）
①NH₄Cl的化学键类型有，SiH₄电子式为．
②上述生产硅烷的过程中液氨的作用是．
③氨气也是重要的工业原料，写出氨气发生催化氧化反应生成NO的化学方程式，实验室可利用如图所示装置完成该反应．　
在实验过程中，除观察到锥形瓶中产生红棕色气体外，还可观察到有白烟生成，白烟的主要成分是．
（2）三硅酸镁（Mg₂Si₃O₈?nH₂O）难溶于水，在医药上可做抗酸剂．它除了可以中和胃液中多余酸之外，生成的H₂SiO₃还可覆盖在有溃疡的胃表面，保护其不再受刺激．三硅酸镁与盐酸反应的化学方程式为．将0.184g三硅酸镁加到50mL 0.1mol/L盐酸中，充分反应后，滤去沉淀，以甲基橙为指示剂，用0.1mol/L NaOH溶液滴定剩余的盐酸，消耗NaOH溶液30mL，则Mg₂Si₃O₈?nH₂O的n值为__．（注：Mg₂Si₃O₈的摩尔质量为260g/mol）

氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．为生成氮化硅膜，可以用NH₃和SiH₄（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜：
3SiH₄+4NH₃

Si₃N₄+12H₂
（1）以硅化镁为原料制备硅烷的反应和工业流程如下：

反应原理：4NH₄Cl+Mg₂Si

4NH₃↑+SiH₄↑+2MgCl₂（△H＜0）
①NH₄Cl的化学键类型有    ，SiH₄电子式为    ．
②上述生产硅烷的过程中液氨的作用是    ．
③氨气也是重要的工业原料，写出氨气发生催化氧化反应生成NO的化学方程式    ，实验室可利用如图所示装置完成该反应．
在实验过程中，除观察到锥形瓶中产生红棕色气体外，还可观察到有白烟生成，白烟的主要成分是    ．
（2）三硅酸镁（Mg₂Si₃O₈?nH₂O）难溶于水，在医药上可做抗酸剂．它除了可以中和胃液中多余酸之外，生成的H₂SiO₃还可覆盖在有溃疡的胃表面，保护其不再受刺激．三硅酸镁与盐酸反应的化学方程式为    ．将0.184g三硅酸镁加到50mL 0.1mol/L盐酸中，充分反应后，滤去沉淀，以甲基橙为指示剂，用0.1mol/L NaOH溶液滴定剩余的盐酸，消耗NaOH溶液30mL，则Mg₂Si₃O₈?nH₂O的n值为    ．（注：Mg₂Si₃O₈的摩尔质量为260g/mol）