Question

【题目】在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液（含有Fe2+、Fe3+、Cu2+）处理和资源回收很有意义，下列是回收金属铜和刻蚀液再生的流程图，回答下列问题：

（1）沉淀A中含有的单质是 。

（2）通入的气体C的化学式是 。

（3）滤液与气体C反应生成刻蚀液的离子方程式： 。

Answer 1

【答案】（1）Fe、Cu （2）Cl2 （3） 2Fe2+＋Cl2＝2Fe3+＋2Cl－

【解析】

试题分析：（1）铁离子、铜离子均能与铁反应，分别生成亚铁离子，亚铁离子和铜，由于铁过量，则沉淀A中含有的金属单质是Fe、Cu。

（2）A中加入盐酸，铁溶解生成氯化亚铁，铜不溶解，过滤得到沉淀B是铜，滤液是氯化亚铁，要再转化为氯化铁，需要通入氯气将氯化亚铁转化为氯化铁。

（3）氯气与氯化亚铁反应的离子方程式为2Fe2+＋Cl2＝2Fe3+＋2Cl－。