题目内容
4．在一定条件下，RO3-与R-可发生反应：RO3-+5R-+6H+═3R2+3H2O，下列关于R元素的叙述中，正确的是（ ）| A． | 元素R位于周期表中第ⅤA族 | |
| B． | R只能被还原 | |
| C． | R2在常温常压下一定是气体 | |
| D． | 若1mol RO3-参与该反应，则转移的电子的物质的量为5 mol |
分析 A、由反应方程式可知，R的最低负价为-1，则其最高正价为+7价，族序数等于最高正化合价．
B、R2中R为0价，R的最低负价为-1，R最高正价为+7价，元素处于中间价态既具有氧化性又具有还原性．
C、若R为I或Br也可以发生如上反应．
D、反应中R元素化合价由+5价降低为0，据此计算．
解答 解：A、由反应方程式可知，R的最低负价为-1，则其最高正价为+7价，族序数等于最高正化合价，元素R应位于第ⅦA族，故A错误；
B、R2中R为0价，R的最低负价为-1，R最高正价为+7价，元素处于中间价态既具有氧化性又具有还原性，故B错误；
C、若R为Cl，单质为气体，若R为I或Br也可以发生如上反应，碘为固体，溴为液体，故C错误；
D、反应中R元素化合价由+5价降低为0，若1molRO3-参与该反应，则转移的电子的物质的量为1mol×（5-0）=5mol，故D正确．
故选：D．
点评 本题考查氧化还原反应及元素的位置和性质，正确判断元素是解题的关键．只有注意结合隐含条件，才能正确判断出元素．
练习册系列答案
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14．下列元素中，原子半径最小的是（ ）
| A． | Li | B． | Na | C． | F | D． | Cl |
．
19．硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础．回答下列问题．
（1）单质硅可通过甲硅烷（SiH4）分解反应来制备．工业上采用Mg2Si和NH4Cl在液氨介质中反应制得SiH4，该反应的化学方程式为Mg2Si+4NH4Cl═SiH4+4NH3+2MgCl2．
（2）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：
①硅与碳同族，也有系列氢化物，但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多，原因是C-C键和C-H键较强，所形成的烷烃稳定．而硅烷中Si-Si键和Si-H键的键能较低，易断裂，导致长链硅烷难以生成．
②SiH4的稳定性小于CH4，更易生成氧化物，原因是C-H键的键能大于C-O键，C-H键比C-O键稳定．而Si-H键的键能却远小于Si-O键，所以Si-H键不稳定而倾向于形成稳定性更强的Si-O键．
（3）在硅酸盐中，SiO${\;}_{4}^{4-}$四面体[如图（a）]通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式．图（b）为一种无限长单链结构的多硅酸根，其中Si与O的原子数之比为1：3．
（1）单质硅可通过甲硅烷（SiH4）分解反应来制备．工业上采用Mg2Si和NH4Cl在液氨介质中反应制得SiH4，该反应的化学方程式为Mg2Si+4NH4Cl═SiH4+4NH3+2MgCl2．
（2）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：
| 化学键 | C-C | C-H | C-O | Si-Si | Si-H | Si-O |
| 键能 （kJ•mol-1） | 356 | 413 | 336 | 226 | 318 | 452 |
②SiH4的稳定性小于CH4，更易生成氧化物，原因是C-H键的键能大于C-O键，C-H键比C-O键稳定．而Si-H键的键能却远小于Si-O键，所以Si-H键不稳定而倾向于形成稳定性更强的Si-O键．
（3）在硅酸盐中，SiO${\;}_{4}^{4-}$四面体[如图（a）]通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式．图（b）为一种无限长单链结构的多硅酸根，其中Si与O的原子数之比为1：3．
9．如表所示，为提纯下列物质（括号内为杂质），所用的除杂试剂和分离方法都正确的是（ ）
| 序号 | 不纯物 | 除杂试剂 | 分离方法 |
| A | CH4（C2H4） | 酸性KMn04溶液 | 洗气 |
| B | NH4Cl溶液（FeCl3） | NaOH溶液 | 过滤 |
| C | 福尔马林（甲酸） | Na2CO3溶液 | 蒸馏 |
| D | 苯（苯酚） | 溴 水 | 分液 |
| A． | A | B． | B | C． | C | D． | D |
16．下列各图中，表示吸热反应的是（ ）
| A． |  | B． |  | C． |  | D． |  |
13．CH3CH2CH2CH3（正丁烷）和CH（CH2） 3（异丁烷）互为 （ ）
| A． | 同分异构体 | B． | 同位素 | C． | 同素异形体 | D． | 同系物 |
