题目内容


铜单质及其化合物在很多领域有重要的用途,如金属铜用来制造电线电缆,五水硫酸铜可用作杀菌剂。

(1)Cu位于元素周期表第ⅠB族。Cu2的核外电子排布式为    

(2)往硫酸铜溶液中加入过量氨水,可生成[Cu(NH34]2配离子。已知

NF3与NH3的空间构型都是三角锥形,但NF3不易与Cu2形成配离子,其原

因是_____________________________________________________________。


解析 (1)Cu(电子排布式为[Ar]3d104s1)―→Cu2的过程中,参与反应的

电子是最外层4s及3d上的各一个电子,故Cu2的电子排布式为[Ar]3d9

1s22s22p63s23p63d9

(2)N、F、H三种元素的电负性:F>N>H,所以NH3中共用电子对偏向

N,而在NF3中,共用电子对偏向F,偏离N原子。

答案 (1)[Ar]3d9或1s22s22p63s23p63d9

(2)N、F、H三种元素的电负性:F>N>H,在NF3中,共用电子对偏向

F,偏离N原子,使得氮原子上的孤电子对难与Cu2形成配位键


练习册系列答案
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单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用焦炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500 ℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

物 质

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸点/℃

57.7

12.8

315

熔点/℃

-70.0

-107.2

升华温度/℃

180

300

162

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式  ____________________________。

(2)装置A中g管的作用是________;装置C中的试剂是________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________。

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成

Fe2,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:5Fe2+MnO4+8H===5Fe3+Mn2+4H2O

①       滴定前是否要滴加指示剂?________(填“是”或“否”),请说明理由  

______________________。

②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×10-2 mol·L-1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是________。

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