题目内容
聚乙烯醇肉桂酸酯（M）可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
请回答：
（1）A转化成B的反应类型为 ___ _。
（2）C的化学名称为_ __
（3）C转化成D的化学反应方程式为 ___ _。
（4）M中含氧官能团的名称为__ __。
（5）E的结构简式为___ 
_
（6）H的顺式结构简式为___ _。
练习册系列答案
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题目内容
聚乙烯醇肉桂酸酯（M）可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
请回答：
（1）A转化成B的反应类型为 ___ _。
（2）C的化学名称为_ __
（3）C转化成D的化学反应方程式为 ___ _。
（4）M中含氧官能团的名称为__ __。
（5）E的结构简式为___ _
（6）H的顺式结构简式为___ _。
I2+I-，向盛有KI3溶液的试管中加入适量CCl4，振荡静置后CCl4层显紫色，说明KI3在CCl4中的溶解度比在水中的大
B．
C．
D．
，其单体的名称为
