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我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法。由于三氯氢硅氢还原法具有一定优点,被广泛应用。其简化的工艺流程如下图所示:

(1)由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式为________________。该生产工艺中可以循环使用的物质是____________________(写出两种)。

(2)由于SiH4具有易提纯的特点,因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法,工业上广泛采用的合成硅烷的方法是让硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷,反应的化学方程式是______________________(不需注明反应条件,下同);整个制备过程必须严格控制无水,否则反应将不能生成硅烷,而是生成硅酸和氢气等,其化学方程式为_____________ _____;整个系统必须与空气隔绝,其原因是_______________。


解析 (1)根据三氯氢硅氢还原法制备多晶硅的工艺流程可知,发生的反应为Si+3HClSiHCl3+H2,SiHCl3+H2Si+3HCl,反应过程中,HCl、H2等可循环使用。(2)硅化镁和NH4Cl在液氨介质中反应得到硅烷,反应方程式为Mg2Si+4NH4ClSiH4↑+2MgCl2+4NH3↑,由于硅烷(SiH4)在空气中能自燃,故制备过程要隔绝空气。

答案 (1)SiHCl3+H2Si+3HCl HCl、H2(填SiHCl3亦可)

     (2)Mg2Si+4NH4ClSiH4↑+2MgCl2+4NH3↑ Mg2Si+4NH4Cl+3H2O===2MgCl2+H2SiO3+4NH3↑+4H2↑ 硅烷在空气中易自燃,浓度高时容易发生爆炸(或其他合理答案)


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