题目内容
【题目】I.A、B、C、D均为中学化学常见的纯净物，A是单质，它们之间有如下的反应关系；
(1)若B是气态氢化物，C、D是氧化物且会造成光化学烟雾污染，B与C在一定条件下反应生成的A是大气的主要成分，写出B-C的化学方程式：_______________。
(2)若D物质具有两性，②、③反应均要用强碱溶液，④反应是通入过量的一种引起温室效应的主要气体，写出A→C的离子方程式：______________________。
(3)若A是制作芯片常用材料，B为A单质的氧化物，C为水玻璃的主要成分.写出A→C的离子方程式：__________________________。
(4)若A是应用最广泛的金属.④反应用到A，②、⑤反应均用到同一种非金属单质，C的溶液用于蚀刻印刷铜电路板，写出C→D的离子方程式：__________________。
(5)若A为淡黄色固体，C、D是氧化物，且是是造成酸雨的主要物质，B与C可反应生成A。写出B完全燃烧的化学方程式：__________________________。
【答案】 4NH3+5O2
4NO+6H2O 2Al+2OH-+6H2O
2[Al(OH)4]-+3H2↑ Si+2OH-+H2O=SiO32-+2H2↑ Fe+2Fe3+=3Fe2+ 2H2S+3O2
2SO2+2H2O
【解析】考查无机推断，（1）C、D会造成光化学烟雾，氮的氧化物是造成光化学烟雾的主要原因，因此C和D是氮的氧化物，根据转化关系，C为NO,D为NO2，因为A为单质，因此A为N2，B为NH3，B→C是氨的催化氧化，即化学反应方程式为4NH3＋5O2
4NO＋6H2O；（2）引起温室效应的气体为CO2，D是两性，且是由C和CO2反应生成，因此D为Al(OH)3，A为Al，B为Al2O3，C为AlO2－，A生成C的离子反应方程式为2Al＋2OH－＋2H2O=2AlO2－＋3H2↑；（3）A是制作芯片常用材料，即A为Si，B为A的氧化物，即B为SiO2，C为水玻璃的成分，即C为Na2SiO3，A生成C的离子方程式Si＋2OH－＋H2O=SiO32－＋2H2↑；（4）应用最广泛的金属是铁，即A为Fe，C的溶液用于刻蚀印刷铜电路板，因此C为FeCl3，②和⑤用同一种非金属单质，④反应用Fe，因此D为FeCl2，用到的非金属单质为Cl2，即C生成D的离子方程式为Fe＋2Fe3＋=3Fe2＋；（5）A为淡黄色固体单质，即A为S，C和D是氧化物，造成酸雨的主要物质，即为SO2和SO3，S燃烧转化成SO2，即C为SO2，D为SO3，SO2和B反应生成S，即B为H2S，H2S完全燃烧的化学方程式为：2H2S+3O22SO2+2H2O。
阅读快车系列答案
