Question

（8分）硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

(1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式　             　　　。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式　　　          　；H₂还原SiHCl₃过程中若混O₂，可能引起的后果是                  。

 (2)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释　　                    　　。

Answer 1

（8分，每空2分）(1) ①SiHCl₃+H₂==(1357K)== Si+3HCl

②3SiHCl₃+3H₂O=H₂SiO₃+H₂↑+3HCl;高温下，H₂遇O₂发生爆炸。

 (2)生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成；SiO₃^2-与NH₄⁺发生双水解反应，SiO₃^2- + 2 NH₄⁺ + 2H₂O === 2NH₃·H₂O + H₂SiO₃↓。