制备单质硅的主要化学反应如下:①SiO2 + 2C Si + 2CO↑ ②Si + 2Cl2 SiCl4③SiCl4+ 2H2 === Si + 4HCl.下列对上述三个反应的叙述中不正确的是A．①②③均为氧化还原反应 B．①③为置换反应C．③中是氧化剂 D．三个反应的反应物中的硅元素均被还原题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

题目内容

制备单质硅的主要化学反应如下：①SiO₂+ 2C Si + 2CO↑

②Si + 2Cl₂SiCl₄③SiCl₄+ 2H₂=== Si + 4HCl，

下列对上述三个反应的叙述中不正确的是

A．①②③均为氧化还原反应　　　　 B．①③为置换反应

C．③中是氧化剂　　　　　　　 D．三个反应的反应物中的硅元素均被还原

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SiHCl₃+H₂
③SiHCl₃与过量H₂在1000～1100℃反应制得纯硅．
已知SiHCl₃能与H₂O强烈反应，在空气中易自燃．请回答下列问题：
（1）第①步制备粗硅的化学反应方程式为

SiO₂+2C

SiO₂+2C

．
（2）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl₃（沸点33.0℃）中含有少量SiCl₄（沸点57.6℃）和HCl（沸点-84.7℃），提纯SiHCl₃采用的方法为：

分馏

．
（3）用SiHCl₃与过量H₂反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）：
①装置B中的试剂是

浓硫酸

，装置C中的烧瓶需要加热，其目的是：

使滴入烧瓶中的SiHCl₃气化

．
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是

SiHCl₃+H₂

SiHCl₃+H₂

．
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及

先通一段时间H₂，将装置中的空气排尽

．
④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂（填写字母代号）是

a．碘水b．氯水c．NaOH溶液d．KSCN溶液e．Na₂SO₃溶液．

晶体硅是一种重要的非金属材料．请写出晶体硅的二种用途：

计算机芯片

、

太阳能电池

．制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl₃（常温下为液态，易挥发）
③SiHCl₃与过量H₂在1000～1100℃反应制得纯硅．
已知：
Ⅰ．SiHCl₃水解会生成两种气态产物，请写出其水解的化学方程式：

SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃+H₂↑+3HCl↑

．
Ⅱ．SiHCl₃ 在空气中自燃．请回答下列问题：
（1）第①步制备粗硅的化学反应方程式为

SiO₂+2C

SiO₂+2C

．
（2）用SiHCl₃与过量H₂反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）

①装置B中的试剂是

浓H₂SO₄

，装置C中的烧瓶需要加热，其目的是

使SiHCl₃气化

；
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是

SiHCl₃+H₂

SiHCl₃+H₂

；
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及

先通一段时间H₂，将装置中的空气排尽

；
④设计鉴定产品硅中是否含少量Fe单质的方法：

取少量产品于试管中加盐酸溶解，再滴加氯水和KSCN（aq），若出现红色说明含Fe，若不出现红色说明不含Fe．

．

晶体硅是一种重要的非金属材料。制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅。
②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl₃：Si+3HCl

SiHCl₃+H₂。
③SiHCl₃与过量的H₂在1000～1100℃时反应制得纯硅。
已知SiHCl₃（沸点33.0℃）能与H₂O强烈反应，在空气中易自燃。
请回答下列问题：
（1）第①步制备粗硅的化学方程式为____________________。
（2）用SiHCl₃与过量的H₂反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置已略去）：

①装置B中的试剂是______________，装置C中的烧瓶需要加热，其目的是_______________。
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是__________________，装置D不能采用普通玻璃管的原因是______________，装置D中发生反应的化学方程式为_______________。
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及_________________________。
④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂（填写字母代号）是_____________。
a.碘水 b.氯水 c.NaOH溶液 d.KSCN溶液 e.Na₂SO₃溶液

(10分)晶体硅是一种重要的非金属材料。请写出晶体硅的二种用途：______、______
制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl₃(常温下为液态，易挥发)
③SiHCl₃与过量Ｈ₂在1000～1100℃反应制得纯硅。
已知:Ⅰ.SiHCl₃水解会生成两种气态产物，请写出其水解的化学方程式：___________。
Ⅱ.SiHCl₃在空气中自燃。请回答下列问题：
（1）第①步制备粗硅的化学反应方程式为　　　　　　　　　　　　　　　　　。
（2）用SiHCl₃与过量Ｈ₂反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）

①装置Ｂ中的试剂是　　　　，装置Ｃ中的烧瓶需要加热，其目的是______________，
②反应一段时间后，装置Ｄ中观察到的现象是　　　　　　　　　　　　　　　_　　，
装置Ｄ中发生反应的化学方程式为　　　　　　　　　　　　　　　　　　___　　，
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度
以及　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　_____________　，
④设计鉴定产品硅中是否含少量Fe单质的方法:_________________________________。

（18分）晶体硅是一种重要的非金属材料。制备纯硅的主要步骤如下：

①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

②粗硅与干燥HCl气体反应制SiHCl₃：Si＋3HCl　　　　SiHCl₃＋Ｈ₂

③SiHCl₃与过量Ｈ₂在1000～1100℃反应制得纯硅。

已知SiHCl₃能与Ｈ₂Ｏ强烈反应，在空气中易自燃。

请回答下列问题：

（1）第①步制备粗硅的化学反应方程式为　　　　　　　　　　　　　　　　　。

（2）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl₃（沸点33.0℃）中含有少量SiCl₄（沸点57.6℃）和HCl（沸点－84.7℃），提纯SiHCl₃采用的方法为：　　　　　　　　　　　　。

（3）用SiHCl₃与过量Ｈ₂反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）：

①装置Ｂ中的试剂是　　　　　　　　，装置Ｃ中的烧瓶需要加热，其目的是：　　　　　　　　　。

②反应一段时间后，装置Ｄ中观察到的现象是　　　　　　　，装置Ｄ不能采用普通玻璃管的原因是　　　　　，装置Ｄ中发生反应的化学方程式为　　　　　　　　　　　　　　　。

③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及　　　　。

④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂（填写字母代号）是　　　　　　　　　　

ａ．碘水ｂ．氯水ｃ．ＮaＯＨ溶液ｄ．KSCN溶液ｅ．Ｎa₂ＳＯ₃溶液

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