题目内容
氯气用途十分广泛,可用于生产半导体材料硅,其生产的流程如下,下列说法不正确的是( )石英砂
粗硅
四氯化硅
纯硅.
| ①焦炭 |
| 高温 |
| ②氯气 |
| 加热 |
| ③氢气 |
| 高温 |
| A、①③是置换反应,②是化合反应 |
| B、高温下,焦炭与氢气的还原性均强于硅 |
| C、任一反应中,每消耗或生成28 g硅,均转移4 mol电子 |
| D、如果焦炭不足,反应①会释放CO2气体 |
考点:硅和二氧化硅
专题:碳族元素
分析:A.根据置换反应是一种单质和一种化合物生成另一种单质和化合物;化合反应是两种或两种以上的物质反应只生成一种化合物的反应;
B.根据还原剂的还原性大于还原产物的还原性;
C.根据质量转化成物质的量以及每消耗或生成1个硅,化合价均变化4,即均转移4个电子;
D、无论焦炭是否过量,均生成CO.
B.根据还原剂的还原性大于还原产物的还原性;
C.根据质量转化成物质的量以及每消耗或生成1个硅,化合价均变化4,即均转移4个电子;
D、无论焦炭是否过量,均生成CO.
解答:
解:A.二氧化硅与碳反应生成硅和一氧化碳,四氯化硅与氢气反应生成硅和氯化氢,都是置换反应,硅和氯气反应生成四氯化硅,是化合反应,故A正确;
B.二氧化硅与碳反应生成硅和一氧化碳,四氯化硅与氢气反应生成硅和氯化氢,根据还原剂的还原性大于还原产物的还原性,则高温下,焦炭与氢气的还原性均强于硅,故B正确;
C.28 g硅的物质的量为1mol,每消耗或生成1个硅,化合价均变化4,即均转移4个电子,所以每消耗或生成28 g硅,均转移4 mol电子,故C正确;
D、无论焦炭是否过量,均生成CO,不会生成二氧化碳,故D错误.
故选D.
B.二氧化硅与碳反应生成硅和一氧化碳,四氯化硅与氢气反应生成硅和氯化氢,根据还原剂的还原性大于还原产物的还原性,则高温下,焦炭与氢气的还原性均强于硅,故B正确;
C.28 g硅的物质的量为1mol,每消耗或生成1个硅,化合价均变化4,即均转移4个电子,所以每消耗或生成28 g硅,均转移4 mol电子,故C正确;
D、无论焦炭是否过量,均生成CO,不会生成二氧化碳,故D错误.
故选D.
点评:本题借助于工业制硅的过程,考查了反应类的判断、还原性的比较、电子转移数目的计算,难度中等.
练习册系列答案
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①电离 ②电解 ③电镀 ④电化学腐蚀.
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