题目内容
（1）工业清洗硅片上SiO2（s）的反应是：SiO2（s）+4HF（g）═SiF4（g）+2H2O（g）△H（298.15K）=-94.0kJ?mol-1，△S（298.15K）=-75.8J?mol-1?K-1，△H和△S不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度范围是（2）对反应2NO2（g）═N2O4（g）△H＜0，在温度T1、T2时，平衡体系N2O4的体积分数随压强的变化曲线如图所示，则T1
考点：体积百分含量随温度、压强变化曲线
专题：
分析：（1）如果△G=△H-T△S＜0，则该反应能自发进行，据此计算温度；
（2）相同压强时，温度越高，平衡向逆反应方向移动，则四氧化二氮的物质的量减小，据此判断温度高低；
相同温度时，增大压强平衡向正反应方向移动，四氧化二氮的体积分数减小；
温度越高，平衡向逆反应方向移动，则化学平衡常数越小．
（2）相同压强时，温度越高，平衡向逆反应方向移动，则四氧化二氮的物质的量减小，据此判断温度高低；
相同温度时，增大压强平衡向正反应方向移动，四氧化二氮的体积分数减小；
温度越高，平衡向逆反应方向移动，则化学平衡常数越小．
解答：
解：（1）如果△G=△H-T△S＜0，则该反应能自发进行，所以T＜
=
K=1240K，
故答案为：＜1240K；
（2）相同压强时，温度越高，平衡向逆反应方向移动，则四氧化二氮的物质的量减小，所以T1＜T2；
相同温度时，增大压强平衡向正反应方向移动，四氧化二氮的体积分数减小；
温度越高，平衡向逆反应方向移动，则生成物浓度越小、反应物浓度越大，所以化学平衡常数减小，T1＜T2，所以B的平衡常数大于C点，
故答案为：＜；正；＞．
| △H |
| △S |
| -94.0 |
| 75.8×10-3 |
故答案为：＜1240K；
（2）相同压强时，温度越高，平衡向逆反应方向移动，则四氧化二氮的物质的量减小，所以T1＜T2；
相同温度时，增大压强平衡向正反应方向移动，四氧化二氮的体积分数减小；
温度越高，平衡向逆反应方向移动，则生成物浓度越小、反应物浓度越大，所以化学平衡常数减小，T1＜T2，所以B的平衡常数大于C点，
故答案为：＜；正；＞．
点评：本题考查了温度、压强对化学平衡的影响，采用“定一议二”的方法判断温度大小，再结合平衡移动方向确定化学平衡常数，注意：化学平衡常数只与温度有关，与物质浓度无关，为易错点．
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；③CH3CH2Br；④
；⑤
；⑥
；⑦
；⑧
；⑨
；⑩
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