题目内容
某强碱性溶液中可能含有的离子是K＋、NH4＋、Al3＋、AlO2－、SO42－、SiO32－、CO32－、Cl－中的某几种离子，现进行如下实验：
①取少量的溶液用硝酸酸化后，加Ba(NO3)2溶液，无沉淀生成。
②另取少量溶液加入盐酸，其现象是：一段时间保持原样后，开始产生沉淀并逐渐增多，沉淀量基本不变后产生一种气体，最后沉淀逐渐减少至消失。
（1）则原溶液中肯定存在的离子是________________________，肯定不存在的离子是___________________________，依次写出步骤②中所发生反应的离子方程式______________________________________________________________________________；
（2）已知一定量的原溶液中加入5 mL 0.2 mol/L盐酸时，沉淀会完全消失，加入足量的硝酸银溶液可得到沉淀0.187 g，则原溶液中是否含有Cl－？______(填“有”或“无”)。
【答案】（1）OH－、AlO2－、CO32－、K＋ NH4＋、Al3＋、SO42－、SiO32－
OH－＋H＋=====H2O、AlO2－＋H＋＋H2O=====Al(OH)3↓、CO32－＋2H＋===== H2O＋CO2↓、Al(OH)3＋3H＋===== Al3＋＋3H2O
（2）有
2HCl(g)+Q1如下表所示，为提纯下列物质（括号内为少量杂质），所选用的除杂试剂与主要分离方法都正确的是
| 不纯物质 | 除杂试剂 | 分离方法 | |
| A | 苯（甲苯） | KMnO4（酸化），NaOH溶液 | 分液 |
| B | NH4Cl溶液（FeCl3） | NaOH溶液 | 过滤 |
| C | 乙酸乙酯（乙酸） | KOH溶液，水 | 分液 |
| D | CO3（SO2） | Na2CO3 | 先气 |
等阴离子。某同学取5份此溶液样品，分别进行了如下实验：
三种阴离子。单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500 ℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下：
a.四氯化硅遇水极易水解；
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c.有关物质的物理常数见下表：
| 物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl下标5 |
| 沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — |
| 熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | — |
| 升华温度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题：
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式____________。
(2)装置A中g管的作用是____________；装置C中的试剂是;装置E中的h瓶需要冷却的理由是____________________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是____________（填写元素符号）。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe2++MnO-4+8H+====5Fe3++Mn2++4H2O
①滴定前是否要滴加指示剂？________（填“是”或“否”），请说明理由__________________。
②某同学称取5.000 g残留物，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10-2 mol·L-1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是________________。
