题目内容
以沉淀法除去工业级偏钒酸铵（NH4VO3）中硅、磷元素杂质的流程如下：
（1）碱熔时，下列措施有利于NH3逸出的是 。
a．升温 b．加压 c．增大NaOH溶液浓度
（2）滤渣主要成分为Mg3(PO4)2、MgSiO3，已知Ksp[Mg3(PO4)2] = 6.4×10-26，Ksp(MgSiO3) = 2.3×10-5。若滤液中c(PO43-)≤10-6 mol·L-1，则c(Mg2+)至少为 mol·L-1。
（3）由图可知，加入一定量的MgSO4溶液作沉淀剂。随着温度升高，除磷率下降，其原因是Mg3(PO4)2溶解度增大、 ；随着温度升高，除硅率增大，其原因是 （用离子方程式表示）。
（4）沉钒时，反应温度需控制在50℃，在实验室可采取的措施为 。在此温度和pH=8的最佳条件下，探究NH4Cl的浓度对沉钒率的影响，设计实验步骤（常见试剂任选)：取两份10 mL一定浓度的滤液A和B，分别加入1 mL和 10 mL的1 mol·L-1NH4Cl溶液，向 ， 控制两份溶液温度均为50℃、pH均为8，由专用仪器测定沉钒率。（忽略混合过程中溶液体积的变化）
（5）高纯的偏钒酸铵灼烧可制备新型光电材料V2O5，该反应的化学方程式为 。
练习册系列答案
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2NO2（g），若NO2的浓度由0.1mol/L增大到0.2mol/L时，需要5 s，那么NO2的浓度继续由0.2mol/L增大到0.4mol/L时，所需反应的时间为