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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:NF3+H2O→NO+HNO3+HF(没配平).下列有关说法正确的是

[  ]

A.

NF3是氧化剂,H2O是还原剂

B.

还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1

C.

若生成0.2 mol HNO3,则转移0.2 mol电子

D.

NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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