题目内容

工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯，其生产过程如下图，根据下图回答∶

(1)有机物A的结构简式为________．

(2)反应⑤的条件是________．

(3)反应②的反应类型是________(填编号，下同)，反应④的反应类型属________．

A．取代反应

B．加成反应

C．氧化反应

D．酯化反应

(4)反应③的化学方程式(不用写反应条件，但要配平)∶________．

(5)在合成线路中，设计第③和⑥这两步反应的目的是∶________．

答案：
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（2009?湖北模拟）工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯（一种常用的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）．

根据转化图填空：
（1）写出反应⑤的化学方程式（有机物写结构简式，要注明反应条件）：
+CH3CH2OH
浓硫酸
△
+H2O
+CH3CH2OH
浓硫酸
△
+H2O

（2）某学生将以上合成路线简化为：

你认为是否合理？
否
否
（填“是”或“否”）请说明理由：
酚羟基更容易被氧化
酚羟基更容易被氧化
（若填“是”，此处不用作答）
（3）请写出由生成C7H5O3Na的化学反应方程式
．
（4）写出同时符合下列要求的所有同分异构体的结构简式
、
、
．
a．含苯环；   
b．可与FeCl3溶液发生显色反应；
c．一氯代物有两种；
d．能发生银镜反应，不能发生水解反应．
工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯（），（俗称尼泊金乙酯）可用作防腐剂，对霉菌有很强的抑制作用．其过程如下：

据图填写下列空白：
（1）有机物A的结构简式
，B的结构简式
；
（2）反应④属于
氧化反应
氧化反应
，反应⑤属于
酯化反应
酯化反应
．
（3）③和⑥的目的是
保护酚羟基，防止被氧化
保护酚羟基，防止被氧化
；
（4）写出反应⑥的方程式
+HI
一定条件
+CH3I
+HI
一定条件
+CH3I
．
工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯（一种常用的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）．

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根据转化图填空：
（1）写出反应⑤的化学方程式（有机物写结构简式，要注明反应条件）：______
（2）某学生将以上合成路线简化为：

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你认为是否合理？______（填“是”或“否”）请说明理由：______（若填“是”，此处不用作答）
（3）请写出由
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生成C7H5O3Na的化学反应方程式______．
（4）写出同时符合下列要求的
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所有同分异构体的结构简式______．
a．含苯环；   
b．可与FeCl3溶液发生显色反应；
c．一氯代物有两种；
d．能发生银镜反应，不能发生水解反应．
工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯（一种常用的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）．

根据转化图填空：
（1）写出反应⑤的化学方程式（有机物写结构简式，要注明反应条件）：   
（2）某学生将以上合成路线简化为：

你认为是否合理？    （填“是”或“否”）请说明理由：    （若填“是”，此处不用作答）
（3）请写出由生成C7H5O3Na的化学反应方程式    ．
（4）写出同时符合下列要求的所有同分异构体的结构简式    ．
a．含苯环；   
b．可与FeCl3溶液发生显色反应；
c．一氯代物有两种；
d．能发生银镜反应，不能发生水解反应．
工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯（一种常用的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）．

根据转化图填空：
（1）写出反应⑤的化学方程式（有机物写结构简式，要注明反应条件）：   
（2）某学生将以上合成路线简化为：

你认为是否合理？    （填“是”或“否”）请说明理由：    （若填“是”，此处不用作答）
（3）请写出由生成C7H5O3Na的化学反应方程式    ．
（4）写出同时符合下列要求的所有同分异构体的结构简式    ．
a．含苯环；   
b．可与FeCl3溶液发生显色反应；
c．一氯代物有两种；
d．能发生银镜反应，不能发生水解反应．

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