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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:

3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3+ 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是

A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂               B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1

C.若生成0.2 mol HNO3,则转移0.2 mol电子  D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

 

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