题目内容
硅是重要的半导体材料,构成了现代电子工业的基础。回答下列问题:
(1)基态Si原子中,电子占据的最高能层符号为______,该能层具有的原子轨道数为______,电子数为________。
(2)硅主要以硅酸盐、________等化合物的形式存在于地壳中。
(3)单质硅存在与金刚石结构类似的晶体,其中原子与原子之间以________相结合,其晶胞中共有8个原子,其中在面心位置贡献________个原子。
(4)单质硅可通过甲硅烷(SiH4)分解反应来制备。工业上采用Mg2Si和NH4Cl在液氨介质中反应制得SiH4,该反应的化学方程式为_____________________________________________________________。
(5)碳和硅的有关化学键键能如下所示,简要分析和解释下列有关事实:
| 化学键 | C—C | C—H | C—O | Si—Si | Si—H | Si—O |
| 键能/ (kJ·mol-1) | 356 | 413 | 336 | 226 | 318 | 452 |
①硅与碳同族,也有系列氢化物,但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多,原因是___________________________________________________。
②SiH4的稳定性小于CH4,更易生成氧化物,原因是
_______________________________________________________。
(6)在硅酸盐中,SiO
四面体(如图a)通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网
状四大类结构型式。图b为一种无限长单链结构的多硅酸根,其中Si原子的杂化形式为________,Si与O的原子数之比为________,化学式为________。
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解析 (1)硅的基态原子中,能量最高的能层是第三电子层,符号为M,该能层有9个原子轨道,电子数为4。(2)硅还以SiO2形式存在于地壳中。(3)硅晶体中,硅原子间以共价键结合在一起,其晶胞6个面上各有一个硅原子,依据均摊原则,面心位置贡献3个原子。(4)可先写出:Mg2Si+NH4Cl―→SiH4,由原子守恒知还应该有MgCl2生成,配平镁、氯、硅元素后得Mg2Si+4NH4Cl―→SiH4+2MgCl2,再进一步分析知还应该有NH3生成,最终结果为Mg2Si+4NH4Cl===SiH4+2MgCl2+4NH3。(5)某类物质数量的多少与物质内化学键的稳定性强弱有关,由表中数据知C—C键、C—H键分别比Si—Si键、Si—H键稳定,故烷烃数量较多。同理因键能C—H>C—O、Si—O>Si—H,故SiH4的稳定性小于CH4,更易生成氧化物。(6)因硅与四个氧原子形成四个σ键,故硅原子为sp3杂化。在图a中,硅、氧原子数目比为14,但图b中每个硅氧四面体中有两个氧原子是与其他四面体共用的,故依据均摊原则可确定图b中硅、氧原子数目比为1:3,化学式为(SiO3)
。
答案 (1)M 9 4
(2)二氧化硅
(3)共价键 3
(4)Mg2Si+4NH4Cl===SiH4+4NH3+2MgCl2
(5)①C—C键
和C—H键较强,所形成的烷烃稳定。而硅烷中Si—Si键和Si—H键的键能较低,易断裂,导致长链硅烷难以生成
②C—H键的键能大于C—O键,C—H键比C—O键稳定。而Si—H键的键能却远小于Si—O键,所以Si—H键不稳定而倾向于形成稳定性更强的Si—O键
(6)sp3 1:3 [SiO3]
(或SiO
)