题目内容
电子工业常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔,制造印刷电路板.用FeCl3溶液做腐蚀液与Cu反应生成CuCl2和FeCl2.
(1)写出该反应的化学方程式 .
(2)
印刷电路的废腐蚀液含有大量CuCl2、FeCl2、FeCl3,任意排放会造成环境污染及资源的浪费.通过下列流程可从该废液中回收铜,并将铁的化合物全部转化为FeCl3溶液,作为腐蚀液原料循环使用.
Ⅰ、步骤②需加入的试剂A是 (填化学式);
Ⅱ、步骤③通入的气体B是 (填化学式),写出该反应的离子方程式: .
(1)写出该反应的化学方程式
(2)
印刷电路的废腐蚀液含有大量CuCl2、FeCl2、FeCl3,任意排放会造成环境污染及资源的浪费.通过下列流程可从该废液中回收铜,并将铁的化合物全部转化为FeCl3溶液,作为腐蚀液原料循环使用.
Ⅰ、步骤②需加入的试剂A是
Ⅱ、步骤③通入的气体B是
考点:物质分离、提纯的实验方案设计
专题:实验设计题
分析:(1)FeCl3溶液做腐蚀液与Cu反应生成CuCl2和FeCl2,由反应物、生成物书写化学反应方程式;
(2)由流程可知,加Fe与氯化铁、氯化铜反应,铁粉过量,则滤液1为FeCl2,滤渣中含Fe、Cu,加过量试剂A为盐酸,过滤得到金属Cu,滤液2中含FeCl2、HCl,为不引人杂质,将铁的化合物全部转化为FeCl3溶液,则气体B为氯气,以此来解答.
(2)由流程可知,加Fe与氯化铁、氯化铜反应,铁粉过量,则滤液1为FeCl2,滤渣中含Fe、Cu,加过量试剂A为盐酸,过滤得到金属Cu,滤液2中含FeCl2、HCl,为不引人杂质,将铁的化合物全部转化为FeCl3溶液,则气体B为氯气,以此来解答.
解答:
解:(1)氯化铁与铜反应生成氯化亚铁与氯化铁,反应方程式为:2FeCl3+Cu═2FeCl2+CuCl2,故答案为:2FeCl3+Cu═2FeCl2+CuCl2;
(2)由流程可知,加Fe与氯化铁、氯化铜反应,铁粉过量,则滤液1为FeCl2,滤渣中含Fe、Cu,加过量试剂A为盐酸,过滤得到金属Cu,滤液2中含FeCl2、HCl,为不引人杂质,将铁的化合物全部转化为FeCl3溶液,则气体B为氯气,
(Ⅰ)由上述分析可知,试剂A为HCl,故答案为:HCl;
(Ⅱ)由上述分析可知,气体B为Cl2;该步反应的离子方程式2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-,故答案为:Cl2;2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-.
(2)由流程可知,加Fe与氯化铁、氯化铜反应,铁粉过量,则滤液1为FeCl2,滤渣中含Fe、Cu,加过量试剂A为盐酸,过滤得到金属Cu,滤液2中含FeCl2、HCl,为不引人杂质,将铁的化合物全部转化为FeCl3溶液,则气体B为氯气,
(Ⅰ)由上述分析可知,试剂A为HCl,故答案为:HCl;
(Ⅱ)由上述分析可知,气体B为Cl2;该步反应的离子方程式2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-,故答案为:Cl2;2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-.
点评:本题考查混合物分离提纯的实验方案设计,为高频考点,把握物质的性质、流程中的反应及混合物分离方法为解答的关键,侧重分析与实验能力的考查,题目难度不大.
练习册系列答案
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用下图所示实验装置进行相应实验,能达到实验目的是( )
| A、 所示装置,蒸干NH4Cl饱和溶液制备NH4Cl晶体 |
| B、 所示的气流方向可用于收集H2、NH3等 |
| C、 所示装置,分离CCl4萃取I2水后的有机层和水层 |
| D、 所示装置,可以证明氧化性:Cl2>Br2>I2 |
下列实验方案的设计不可行的是( )
| A、除去粗盐中的Ca2+、Mg2+、SO42-,依次加入的物质是H2O、Na2CO3、Ba(OH)2、HCl |
| B、用铜和稀硝酸反应制取NO,并用排水法收集气体 |
| C、采用互相滴加的方法即可鉴别碳酸钠溶液和稀盐酸 |
| D、制备Fe(OH)2时,应将胶头滴管伸入FeSO4溶液中再挤压出氢氧化钠溶液 |
完成下列实验所选择的装置或仪器(部分夹持装置已略去)不正确的是( )
| A | B | C | D | |
| 实验 | 用CCl4提取溴水中的Br2 | 制取乙酸乙酯[来源:学优高考网] | 检验含有乙醇 蒸汽的乙烯 | 电石和饱和食盐水制取乙炔 |
| 装置或 仪器 |
| A、A | B、B | C、C | D、D |
下列物质能与水反应生成强碱的是( )
| A、SiO2 |
| B、Al2O3 |
| C、SO3 |
| D、Na2O |