题目内容
硅是信息技术的关键材料。高温下氢气与四氯化硅(SiCl4)反应的化学方程式为:2H2+SiCl4Si+4HCl,该反应属于
A.化合反应 B.分解反应 C.置换反应 D.复分解反应
练习册系列答案
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为了除去物质内的杂质,需选用适当的试剂,其中正确的是( )
选项 | 物质(括号内为杂质) | 选用试剂 |
A | C(Fe) | 盐酸 |
B | CaCl2溶液(HCl) | Ba(OH)2溶液 |
C | CO2(CO) | 碱石灰(CaO和NaOH的混合物) |
D | NaOH溶液[Ca(OH)2] | K2CO3溶液 |