题目内容
氢氟酸(HF)可用于在玻璃上雕刻各种精美图案,发生反应的化学方程式可表示为SiO2+4HF=X↑+2H2O,则物质X为( )
A. SiO B. O2 C. SiF4 D. SiF
C 【解析】反应物中硅、氧、氢、氟元素的原子个数为1,2,4,4,生成物中硅、氧、氢、氟元素的原子个数为0,2,4,0,根据质量守恒定律,X的化学式为SiF4 ,故选C。
练习册系列答案
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下列除去物质中所含杂质(括号内的物质)的方法不正确的是
A | CO2(HCl):通过NaOH溶液后用浓硫酸干燥 |
B | N2(O2):将气体缓缓通过灼热的铜网 |
C | MnO2(KC1):加足量水溶解,过滤,洗涤,干燥 |
D | KNO3溶液(KCl):加适量的AgNO3溶液,过滤 |
A. A B. B C. C D. D
A 【解析】A、CO2和HCl气体均能与NaOH溶液反应,不但能把杂质除去,也会把原物质除去,不符合除杂原则,错误;B、铜能与氧气在加热的条件下反应生成氧化铜,且不与N2反应,能除去杂质且没有引入新的杂质,符合除杂原则,正确;C、KCl易溶于水,MnO2难溶于水,加足量水溶解,过滤,洗涤,干燥的方法进行分离除杂,正确;D、KCl与AgNO3反应生成氯化银和硝酸钾,能除去杂质且没有引入新的杂质...