题目内容
按要求写出下列各反应的化学方程式:
(1)用胃舒平(主要成分是氢氧化铝)来治疗胃酸过多: ;
(2)用氢氧化钠溶液吸收有毒的二氧化硫气体: ;
(3)用盐酸除铁锈: ;
(4)用氢氧化钙处理硫酸厂污水中含有的硫酸: ;
(5)用一氧化碳还原氧化铁: ;
(6)四氯化硅(SiCl4)是制造半导体材料硅的中间原料,在空气中容易吸收水蒸气生成H4SiO4和HCl而产生白色烟雾,该反应的化学方程式: .
(1)用胃舒平(主要成分是氢氧化铝)来治疗胃酸过多:
(2)用氢氧化钠溶液吸收有毒的二氧化硫气体:
(3)用盐酸除铁锈:
(4)用氢氧化钙处理硫酸厂污水中含有的硫酸:
(5)用一氧化碳还原氧化铁:
(6)四氯化硅(SiCl4)是制造半导体材料硅的中间原料,在空气中容易吸收水蒸气生成H4SiO4和HCl而产生白色烟雾,该反应的化学方程式:
考点:书写化学方程式、文字表达式、电离方程式
专题:化学用语和质量守恒定律
分析:首先根据反应原理找出反应物、生成物、反应条件,根据化学方程式的书写方法、步骤进行书写即可.
解答:解:(1)氢氧化铝与胃液中的盐酸反应生成氯化铝和水,反应大的化学方程式为:Al(OH)3+3HCl=AlCl3+3H2O.
(2)二氧化硫与氢氧化钠溶液反应生成亚硫酸钠和水,反应的化学方程式为:2NaOH+SO2=Na2SO3+H2O.
(3)铁锈的主要成分是氧化铁,与盐酸反应生成氯化铁和水,反应的化学方程式是:Fe2O3+6HCl═2FeCl3+3H2O.
(4)氢氧化钙与硫酸反应生成硫酸钙和水,反应的化学方程式是:Ca(OH)2+H2SO4=CaSO4+2H2O.
(5)用一氧化碳还原氧化铁生成铁和二氧化碳,反应的化学方程式为3CO+Fe2O3
2Fe+3CO2.
(6)四氯化硅(SiCl4)在空气中容易吸收水蒸气生成H4SiO4和HCl而产生白色烟雾,反应的化学方程式为SiCl4+4H2O=H4SiO4+4HCl.
故答案为:(1)Al(OH)3+3HCl=AlCl3+3H2O;
(2)2NaOH+SO2=Na2SO3+H2O;
(3)Fe2O3+6HCl═2FeCl3+3H2O;
(4)Ca(OH)2+H2SO4=CaSO4+2H2O;
(5)3CO+Fe2O3
2Fe+3CO2;
(6)SiCl4+4H2O=H4SiO4+4HCl.
(2)二氧化硫与氢氧化钠溶液反应生成亚硫酸钠和水,反应的化学方程式为:2NaOH+SO2=Na2SO3+H2O.
(3)铁锈的主要成分是氧化铁,与盐酸反应生成氯化铁和水,反应的化学方程式是:Fe2O3+6HCl═2FeCl3+3H2O.
(4)氢氧化钙与硫酸反应生成硫酸钙和水,反应的化学方程式是:Ca(OH)2+H2SO4=CaSO4+2H2O.
(5)用一氧化碳还原氧化铁生成铁和二氧化碳,反应的化学方程式为3CO+Fe2O3
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(6)四氯化硅(SiCl4)在空气中容易吸收水蒸气生成H4SiO4和HCl而产生白色烟雾,反应的化学方程式为SiCl4+4H2O=H4SiO4+4HCl.
故答案为:(1)Al(OH)3+3HCl=AlCl3+3H2O;
(2)2NaOH+SO2=Na2SO3+H2O;
(3)Fe2O3+6HCl═2FeCl3+3H2O;
(4)Ca(OH)2+H2SO4=CaSO4+2H2O;
(5)3CO+Fe2O3
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(6)SiCl4+4H2O=H4SiO4+4HCl.
点评:本题难度不大,考查学生根据反应原理书写化学方程式的能力,化学方程式书写经常出现的错误有不符合客观事实、不遵守质量守恒定律、不写条件、不标符号等.
练习册系列答案
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