题目内容
硅是一种重要的半导体材料，应用范围广。三氯硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程如图所示：
(1)硅属于__________(选填“金属”或“非金属”)元素；
(2)写出上述流程中一种氧化物的化学式：______________________；
(3)上述流程中最后一步反应的化学方程式为______________________________，该反应属于________(填基本反应类型)反应；
(4)如果还原SiHCl3过程中混入O2，可能引起的后果是________________________；
(5)该流程中可以循环利用的物质的化学式是____________________。
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