题目内容

地壳里各种元素的含量差别很大，按质量计，含量最多的元素是

A．氮           B．硅               C．氧               D．铁

 

【答案】

C

【解析】

试题分析：根据地壳中元素含量由多到少的顺序进行解答，地壳中元素含量由多到少的顺序为：氧、硅、铝、铁、钙，故选C。

考点：地壳中元素的分布与含量

点评：解答本题的关键是，熟记地壳中元素含量由多到少的顺序。

 

练习册系列答案
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从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答-下列问题：
（1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如右图所示，其中表示硅元素的是
 
（填字母）．
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（2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质
 
（选填“活泼”、“不活泼”）．
（3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：
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①整个制备过程必须达到无水无氧．在H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是
 

②由粗硅制取三氯甲硅烷的化学方程式为
 
．
③在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是
 
；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是
 
．
2、地球是人类的家园．地壳里各种元素的含量差别很大，按质量计，含量最多的元素是（　　）
（2009?南京）从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答-下列问题：
（1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如右图所示，其中表示硅元素的是
B
B
（填字母）．
（2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质
不活泼
不活泼
（选琐“活泼”、“不活泼”）．
（3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：

①整个制备过程必须达到无水无氧．在H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是
爆炸
爆炸
．
②在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是
HCl
HCl
；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是
焦炭
焦炭
．
从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答下列问题：
（1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如图所示，其中表示硅元素的是
B
B
（填字母）．
（2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，常温下硅的化学性质
不活泼
不活泼
（选“活泼”、“不活泼”）．
（2012?沙县质检）地壳里各种元素的含量（质量分数）如图所示，根据图中信息回答：
（1）图中显示的元素中，属于非金属元素的有（用元素符号表示，只要写一个）：
O
O
；
（2）图中显示的金属元素中，其金属活动性由强到弱的顺序是：
K、Ca、Na、Mg、Al、Fe
K、Ca、Na、Mg、Al、Fe
（用元素符号表示）；
（3）限以图中的元素为例，写出符合下列要求的物质的化学式（各写一个）：
①气态非金属单质
O2
O2
，②氧化物
H2O
H2O
，③碱
NaOH
NaOH
．

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