题目内容
氢氟酸(HF)对玻璃有腐蚀作用,可用于在玻璃上雕刻各种精美图案,反应原理为SiO2+4HF=X↑+2H2O,则X为( )
A. F2 B. SiH4 C. O2 D. SiF4
D 【解析】 根据质量守恒定律可知,反应前后原子的种类和数目不发生改变,反应前硅原子、氧原子、氢原子和氟原子的个数依此为1,2,4,4,反应后氢原子和氧原子的个数为4,2,所以X中含有一个硅原子和四个氟原子。故选D。
练习册系列答案
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除去下列物质中混有的少量杂质,所选用的试剂和操作方法正确的是( )
选项 | 物质 | 杂质 | 试剂和操作方法 |
A | N2 | O2 | 通过灼热的CuO粉末,收集气体 |
B | 二氧化碳气体 | 氯化氢气体 | 通过氢氧化钠溶液,收集气体 |
C | Cu(NO3)2溶液 | AgNO3 | 加入过量的铜粉,充分反应后过滤 |
D | KCl溶液 | MgCl2 | 加入适量NaOH溶液,充分反应后滤 |
A. A B. B C. C D. D
C 【解析】 A、氮气和氧气都不能与灼热的CuO粉末反应,故错误; B、二氧化碳气体和氯化氢气体都可以与氢氧化钠反应,故不能用氢氧化钠除去二氧化碳气体中混有的氯化氢气体,故错误; C、铜不能和硝酸铜反应,铜可以与硝酸银反应生成硝酸铜和银,能除去杂质且不引入新杂质,故正确; D、氢氧化钠可以除去氯化镁杂质,但是引入了氯化钠杂质,故错误。故选C。