摘要:从20世纪中叶开始.硅成了信息技术的关键材料.是目前应用最多的半导体材料.请回答下列问题:
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从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答-下列问题:
(1)地壳里各种元素的含量(质量分数)如右图所示,其中表示硅元素的是 (填字母).
![精英家教网](http://thumb.zyjl.cn/pic3/upload/images/201206/24/08013769.png)
(2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,则常温下硅的化学性质 (选填“活泼”、“不活泼”).
(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意如下:
![精英家教网](http://thumb.zyjl.cn/pic3/upload/images/201112/73/68c38a19.png)
①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是
②由粗硅制取三氯甲硅烷的化学方程式为 .
③在生产过程中物质A可循环使用,A的化学式是 ;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是 .
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(1)地壳里各种元素的含量(质量分数)如右图所示,其中表示硅元素的是
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(2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,则常温下硅的化学性质
(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意如下:
![精英家教网](http://thumb.zyjl.cn/pic3/upload/images/201112/73/68c38a19.png)
①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是
②由粗硅制取三氯甲硅烷的化学方程式为
③在生产过程中物质A可循环使用,A的化学式是
![](http://thumb.zyjl.cn/pic3/upload/images/201210/38/c9a45a06.png)
(1)地壳里各种元素的含量(质量分数)如图所示,其中表示硅元素的是
B
B
(填字母).(2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,常温下硅的化学性质
不活泼
不活泼
(选“活泼”、“不活泼”).从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答下列问题:
(1)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,则常温下硅的化学性质
(2)硅在自然界中含量比较丰富,主要以硅酸盐和石英砂存在于地壳中,石英砂的主要成分是二氧化硅,请写出二氧化硅的化学式
(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意如图:
![](http://thumb.zyjl.cn/pic3/upload/images/201205/13/0a1b768a.png)
①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是
②在生产过程中物质A可循环使用,A的化学式是
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(1)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,则常温下硅的化学性质
不活泼
不活泼
(填“活泼”或“不活泼”).(2)硅在自然界中含量比较丰富,主要以硅酸盐和石英砂存在于地壳中,石英砂的主要成分是二氧化硅,请写出二氧化硅的化学式
SiO2
SiO2
.(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意如图:
![](http://thumb.zyjl.cn/pic3/upload/images/201205/13/0a1b768a.png)
①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是
爆炸
爆炸
.②在生产过程中物质A可循环使用,A的化学式是
HCl
HCl
;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是H2
H2
.