摘要:20.半圆柱体P放在粗糙的水平地面上.其右端有固定放置的竖直档板MN .在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体 Q .整个装置处于静止.如图所示.若用外力使MN保持竖直.缓慢地向右移动.在 Q 到达地面以前.P始终保持静止.在此过程中.下列说法中正确的是:A .MN对 Q 的弹力逐渐增大 B .地面对P的摩擦力逐渐增大 C .P.Q 间的弹力先减小后增大 D . Q 所受的合力逐渐增大
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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上,其右端有固定放置的竖直档板MN在半圆柱体P和挡板MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止,如图所示为这个装置的截面图.现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移,在Q滑落到地面之前,P始终保持静止.在此过程中,下列说法中正确的是( )
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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上,其右端有一竖直放置的光滑档板MN.在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止,如图所示是这个装置的截面图.现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移,在Q滑落到地面之前,发现P始终保持静止.则在此过程中,下列说法正确的是( )
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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上,其右端有固定放置的竖直挡板MN.在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止.图示是这个装置的纵截面图.若用外力使MN保持竖直,缓慢地向右移动,在Q落到地面以前,发现P始终保持静止.在此过程中,下列说法中正确的是( )
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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上,其右端有一竖直放置的光滑档板MN.在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止,如图所示是这个装置的截面图.现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移,在Q滑落到地面之前,发现P始终保持静止.则在此过程中,下列说法正确的是( )
A、MN对Q的弹力逐渐减小 | B、地面对P的支持力逐渐增大 | C、Q所受的合力不变 | D、地面对P的摩擦力逐渐增大 |