摘要:21.工业上电解质量分数为23.4%的精制食盐水a kg.电解后残液的密度为ρ kg/L.将产生的H2.Cl2在一定条件下反应制成质量分数为36.5%的盐酸b kg.已知H2.C12的利用率均为c%.试计算(用含题中字母的代数式表示):(1)制得氯化氢 ▲ mol.(2)残液中氯化钠的质量 ▲ Kg.(3)残液中氢氧化钠的物质的量浓度 ▲ mol/L.
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工业上电解质量分数为23.4%的精制食盐水a kg,电解后残液的密度为ρ kg/L.将产生的H2、Cl2在一定条件下反应制成质量分数为36.5%的盐酸b kg,已知H2、C12的利用率均为c%.试计算(用含题中字母的代数式表示):
(1)制得氯化氢
(2)残液中氯化钠的质量
(3)残液中氢氧化钠的物质的量浓度
mol/L.
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(1)制得氯化氢
10b
10b
mol.(2)残液中氯化钠的质量
(0.234a-
)
58.5b |
c |
(0.234a-
)
Kg.58.5b |
c |
(3)残液中氢氧化钠的物质的量浓度
1000ρb |
ac-36.5b |
1000ρb |
ac-36.5b |
工业上电解质量分数为23.4%的精制食盐水a kg,电解后残液的密度为ρ kg/L.将产生的H2、Cl2在一定条件下反应制成质量分数为36.5%的盐酸b kg,已知H2、C12的利用率均为c%.试计算(用含题中字母的代数式表示):
(1)制得氯化氢______mol.
(2)残液中氯化钠的质量______ Kg.
(3)残液中氢氧化钠的物质的量浓度______mol/L.
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(1)制得氯化氢______mol.
(2)残液中氯化钠的质量______ Kg.
(3)残液中氢氧化钠的物质的量浓度______mol/L.
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工业上电解质量分数为23.4%的精制食盐水a kg,电解后残液的密度为ρ kg/L.将产生的H2、Cl2在一定条件下反应制成质量分数为36.5%的盐酸b kg,已知H2、C12的利用率均为c%.试计算(用含题中字母的代数式表示):
(1)制得氯化氢______mol.
(2)残液中氯化钠的质量______ Kg.
(3)残液中氢氧化钠的物质的量浓度______mol/L.
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(1)制得氯化氢______mol.
(2)残液中氯化钠的质量______ Kg.
(3)残液中氢氧化钠的物质的量浓度______mol/L.
(2009?重庆)工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅.
(1)图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是
(2)多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用收到广泛关注.
①SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为
②SiCl4可转化为SiHCl3而循环使用.一定条件下,在20L恒容密闭容器中的反应:3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(g)4SiHCl3(g)达平衡后,H2与SiHCl3物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗纯NaCl的质量为
(3)采用无膜电解槽电解饱和食盐水,可制取氯酸钠,同时生成氢气,现制得氯酸钠213.0kg,则生成氢气
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(1)图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是
氯气
氯气
;NaOH溶液的出口为a
a
(填字母);精制饱和食盐水的进口为d
d
(填字母);干燥塔中应使用的液体是浓硫酸
浓硫酸
.(2)多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用收到广泛关注.
①SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为
SiCl4+2H2+O2
SiO2+4HCl
| ||
SiCl4+2H2+O2
SiO2+4HCl
.
| ||
②SiCl4可转化为SiHCl3而循环使用.一定条件下,在20L恒容密闭容器中的反应:3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(g)4SiHCl3(g)达平衡后,H2与SiHCl3物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗纯NaCl的质量为
0.351
0.351
kg.(3)采用无膜电解槽电解饱和食盐水,可制取氯酸钠,同时生成氢气,现制得氯酸钠213.0kg,则生成氢气
134.4
134.4
M3(标准状况).(2013?潍坊模拟)工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅.下图1是离子交换膜法(允许钠离子通过,不允许氢氧根与氯离子通过)电解饱和食盐水,电解槽阳极产生的气体是
(1)多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注.SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4、H2、O2反应,产物有两种,化学方程式为
(2)如图2,实验室制备H2和Cl2通常采用下列反应:
Zn+H2SO4?ZnSO4+H2↑,MnO2+4HCl(浓)
MnCl2+Cl2↑+2H2O
据此,从下列所给仪器装置中选择制备并收集H2的装置
可选用制备气体的装置:
(3)采用无膜电解槽电解饱和食盐水,可制取氯酸钠,同时生成氢气.现制得氯酸钠213.0kg,则生成氢气
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氯气
氯气
,NaOH溶液的出口为a
a
(填字母),精制饱和食盐水的进口为d
d
(填字母),干燥塔中应使用的液体是浓硫酸
浓硫酸
.(1)多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注.SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4、H2、O2反应,产物有两种,化学方程式为
SiCl4+2H2+O2
SiO2+4HCl
| ||
SiCl4+2H2+O2
SiO2+4HCl
.SiCl4可转化为SiCl3而循环使用.一定条件下,在20L恒容密闭容器中反应3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)═4SiHCl3(g)达平衡后,H2与SiHCl3物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗NaCl的质量为
| ||
0.35
0.35
kg.(2)如图2,实验室制备H2和Cl2通常采用下列反应:
Zn+H2SO4?ZnSO4+H2↑,MnO2+4HCl(浓)
| ||
. |
据此,从下列所给仪器装置中选择制备并收集H2的装置
e
e
(填代号)和制备并收集干燥、纯净Cl2的装置d
d
(填代号).可选用制备气体的装置:
(3)采用无膜电解槽电解饱和食盐水,可制取氯酸钠,同时生成氢气.现制得氯酸钠213.0kg,则生成氢气
134.4
134.4
m3(标准状况).(忽略可能存在的其他反应)