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（11分）氯气是氯碱工业的主要产品之一，是一种常用的消毒剂，其消毒原理是与水反应生成了次氯酸：
Cl2 + H2O 
HCl + HClO K=4.5×10-4
次氯酸的强氧化性能杀死水中的病菌（不直接用次氯酸为自来水消毒是因为次氯酸易分解，且毒性较大）。但是，由于氯气贮运不方便，且具有一定的危险性，目前正逐渐被其他性能优越的消毒产品所替代。请回答：
（1）氯碱工业生产氯气的化学方程式为 。
（2）使用氯气为自来水消毒可以有效
地控制次氯酸的浓度，请结合平衡常数解释原因： 。
（3）84消毒液与氯气相比具有贮运方便等优点，用氯气与烧碱溶液反应制备84消毒液的离子方程式为 。
（4）二氧化氯是目前国际上公认的最新一代的高效、广谱、安全的杀菌、保鲜剂。我国科学家研发了用氯气氧化亚氯酸钠（NaClO2）固体制备二氧化氯的方法，其化学方程式为 。
（5）一位同学设计了一套用浓盐酸和KMnO4固体制取少量氯气并比较氯气与碘单质的氧
化性强弱的微型装置（如图）。
①下列溶液能吸收Cl2的是 （填字母序号）。
| A．饱和食盐水 | B．饱和Na2SO3溶液 |
| C．饱和NaOH溶液 | D．浓硫酸 |
。
③请用原子结构知识解释Cl2的氧化性强于I2的原因： 查看习题详情和答案>>
Cl2 + H2O
HCl + HClO K=4.5×10-4次氯酸的强氧化性能杀死水中的病菌（不直接用次氯酸为自来水消毒是因为次氯酸易分解，且毒性较大）。但是，由于氯气贮运不方便，且具有一定的危险性，目前正逐渐被其他性能优越的消毒产品所替代。请回答：
（1）氯碱工业生产氯气的化学方程式为 。
（2）使用氯气为自来水消毒可以有效
地控制次氯酸的浓度，请结合平衡常数解释原因： 。（3）84消毒液与氯气相比具有贮运方便等优点，用氯气与烧碱溶液反应制备84消毒液的离子方程式为 。
（4）二氧化氯是目前国际上公认的最新一代的高效、广谱、安全的杀菌、保鲜剂。我国科学家研发了用氯气氧化亚氯酸钠（NaClO2）固体制备二氧化氯的方法，其化学方程式为 。
（5）一位同学设计了一套用浓盐酸和KMnO4固体制取少量氯气并比较氯气与碘单质的氧
化性强弱的微型装置（如图）。
①下列溶液能吸收Cl2的是 （填字母序号）。
| A．饱和食盐水 | B．饱和Na2SO3溶液 |
| C．饱和NaOH溶液 | D．浓硫酸 |
。
③请用原子结构知识解释Cl2的氧化性强于I2的原因：
（14分）高纯硅是当今科技的核心材料。工业上，用氢气还原四氯化硅制得高纯硅的反应为SiCl4（g）+2H2（g） Si（s）+4HCl（g） 。已知SiCl4可完全水解生成硅酸和盐酸。向容积为1L的密闭容器中充入一定量的SiCl4（g）和H2（g），分别在T1和T2温度时进行反应。SiCl4的物质的量随时间变化情况如下表所示：
（1）T1时，反应开始的2 min内，用HCl表示的反应速率为 。
（2）该反应的平衡常数表达式为：K＝ 。
（3）保持其他条件不变，下列措施可提高SiCl4转化率的是 。
a．充入更多的SiCl4（g）
b．充入更多的H2（g）
c．及时分离出Si（s）
d．使用催化剂
e．将容器的体积扩大一倍
（4）据上表中的数据分析：T1 T2（填“＞”或“＜”，下同），理由是 。已知n1>n2，ΔH 0。
（5）有同学认为，采用水淋法来吸收生成的HCl，可以提高SiCl4的转化率。该认识 （填“合理”或“不合理”），理由是 。
（6）将平衡后的混合气体溶于水，取少量上层清液，向其中滴加足 量的AgNO3溶液，反应后过滤，取沉淀向其中加入Na2S溶液，可观察到 。
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（14分）高纯硅是当今科技的核心材料。工业上，用氢气还原四氯化硅制得高纯硅的反应为SiCl4（g）+2H2（g） Si（s）+4HCl（g） 。已知SiCl4可完全水解生成硅酸和盐酸。向容积为1L的密闭容器中充入一定量的SiCl4（g）和H2（g），分别在T1和T2温度时进行反应。SiCl4的物质的量随时间变化情况如下表所示：
（1）T1时，反应开始的2 min内，用HCl表示的反应速率为 。
（2）该反应的平衡常数表达式为：K＝ 。
（3）保持其他条件不变，下列措施可提高SiCl4转化率的是 。
a．充入更多的SiCl4（g）
b．充入更多的H2（g）
c．及时分离出Si（s）
d．使用催化剂
e．将容器的体积扩大一倍
（4）据上表中的数据分析：T1 T2（填“＞”或“＜”，下同），理由是 。已知n1>n2，ΔH 0。
（5）有同学认为，采用水淋法来吸收生成的HCl，可以提高SiCl4的转化率。该认识 （填“合理”或“不合理”），理由是 。
（6）将平衡后的混合气体溶于水，取少量上层清液，向其中滴加足 量的AgNO3溶液，反应后过滤，取沉淀向其中加入Na2S溶液，可观察到 。
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（14分）高纯硅是当今科技的核心材料。工业上，用氢气还原四氯化硅制得高纯硅的反应为SiCl4（g）+2H2（g）
Si（s）+4HCl（g）。已知SiCl4可完全水解生成硅酸和盐酸。向容积为1L的密闭容器中充入一定量的SiCl4（g）和H2（g），分别在T1和T2温度时进行反应。SiCl4的物质的量随时间变化情况如下表所示：
（1）T1时，反应开始的2 min内，用HCl表示的反应速率为 。
（2）该反应的平衡常数表达式为：K＝ 。
（3）保持其他条件不变，下列措施可提高SiCl4转化率的是 。
a．充入更多的SiCl4（g）
b．充入更多的H2（g）
c．及时分离出Si（s）
d．使用催化剂
e．将容器的体积扩大一倍
（4）据上表中的数据分析：T1 T2（填“＞”或“＜”，下同），理由是 。已知n1>n2，ΔH 0。
（5）有同学认为，采用水淋法来吸收生成的HCl，可以提高SiCl4的转化率。该认识 （填“合理”或“不合理”），理由是 。
（6）将平衡后的混合气体溶于水，取少量上层清液，向其中滴加足量的AgNO3溶液，反应后过滤，取沉淀向其中加入Na2S溶液，可观察到 。