摘要：33．原溶液为2mg.含NaOH:
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“卤块”的主要成分为MgCl2（含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子），若以它为原料，按如下工艺流程图，即可制得“轻质氧化镁”。如果要求产品尽量不含杂质离子，而且成本较低，流程中所用试剂或pH值控制可参考下列附表确定。轻质氧化镁工艺流程图如下：
表1 化学试剂价格表
| 试剂 | 价格（元/ t ） |
| 漂液（含NaClO25.2%） H2O2（30%） NaOH（固98%） Na2CO3（固99.5%） 卤块（MgCl2，30%） | 450 2400 2100 600 310 |
表2 生成氢氧化物沉淀的值
| 物质 | 开始沉淀 | 沉淀完全 |
| Fe(OH)3 Fe(OH)2 Mn(OH)2 Mg(OH)2 | 2.7 7.6 8.3 9.  6 | 3.7 9.6Ω 9.8 11.1 |
⑴、在步骤②加入试剂X，最佳选择应是 ，其作用是 。
⑵、在步骤③加入的试剂Y应是 ，之所以要控制pH=9.8，其目的
是 。
⑶、在步骤⑤时发生的化学反应方程式是： 。 查看习题详情和答案>>
“卤块”的主要成分为MgCl2（含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子），若以它为原料，按如下工艺流程图，即可制得“轻质氧化镁”。如果要求产品尽量不含杂质离子，而且成本较低，流程中所用试剂或PH值控制可参考下列附表确定
轻质氧化镁生产工艺流程图
表1 生成氢氧化物沉淀的PH值
*）注：Fe2+氢氧化物呈絮状，不易从溶液中除去，所以常常将它氧化成为Fe3+，生成
Fe（OH）3沉淀而去除之。
表2 化学试剂价值表
请填写以下空白：
（1）在步骤②加入的试剂X，最佳选择应是 ，其作用是 。
（2）步骤③加入的试剂Y应是 ；之所以要控制pH=9.8，其目的是 。
（3）在步骤⑤时发生的化学反应方程式是：
轻质氧化镁生产工艺流程图
表1 生成氢氧化物沉淀的PH值
| 物质 | 开始沉淀 | 沉淀完全 |
| Fe（OH）3 Fe（OH）2 Mn（OH）2 Mg（OH）2 | 2．7 7．6 8．3 9．6 | 3．7 9．6 9．8 11．1 |
Fe（OH）3沉淀而去除之。
表2 化学试剂价值表
| 试剂 | 价格（元/t） |
| 漂液（含NaClO25.2%） H2O2（30%） NaOH（固98%） Na2CO3（固99.5%） 卤块（MgCl2，30%） | 450 2400 2100 600 310 |
（1）在步骤②加入的试剂X，最佳选择应是 ，其作用是 。
（2）步骤③加入的试剂Y应是 ；之所以要控制pH=9.8，其目的是 。
（3）在步骤⑤时发生的化学反应方程式是：
（2010?扬州模拟）多晶硅（硅单质的一种）被称为“微电子大厦的基石”，制备中副产物以SiCl4为主，它对环境污染很大，能遇水强烈水解，放出大量的热．研究人员利用SiCl4水解生成的盐酸和钡矿粉（主要成份为BaCO3，且含有钙、铁、镁等离子）制备BaCl2?2H2O，工艺流程如下．已知常温下Fe3+、Mg2+完全沉淀的pH分别是：3.4、12.4．
（1）SiCl4水解控制在40℃以下的原因是
已知：SiCl4（s）+H2（g）=SiHCl3（s）+HCl（g）△H1=+47kJ/mol；SiHCl3（s）+H2（g）=Si（s）+3HCl（g）△H2=+189kJ/mol
则由SiCl4制备硅的热化学方程式为
（2）加钡矿粉时生成BaCl2的离子反应方程式是
（3）加20% NaOH调节pH=12.5，得到滤渣A的主要成分是
（4）BaCl2滤液经蒸发浓缩、降温结晶、过滤，再经真空干燥后得到?2H2O．实验室中蒸发浓缩用到的含硅酸盐的仪器有
（5）为体现该工艺的绿色化学思想，该工艺中能循环利用的物质是
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（1）SiCl4水解控制在40℃以下的原因是
防止HCl挥发污染环境或控制SiCl4的水解速率，防止反应过于剧烈
防止HCl挥发污染环境或控制SiCl4的水解速率，防止反应过于剧烈
．已知：SiCl4（s）+H2（g）=SiHCl3（s）+HCl（g）△H1=+47kJ/mol；SiHCl3（s）+H2（g）=Si（s）+3HCl（g）△H2=+189kJ/mol
则由SiCl4制备硅的热化学方程式为
SiCl4（s）+2H2（g）=Si（s）+4HCl（g）△H=+236kJ/mol
SiCl4（s）+2H2（g）=Si（s）+4HCl（g）△H=+236kJ/mol
．（2）加钡矿粉时生成BaCl2的离子反应方程式是
BaCO3+2H+=Ba2++CO2+H2O↑
BaCO3+2H+=Ba2++CO2+H2O↑
．（3）加20% NaOH调节pH=12.5，得到滤渣A的主要成分是
Mg（OH）2、Ca（OH）2
Mg（OH）2、Ca（OH）2
，控制温度70℃的目的是确保钙离子完全除去（或温度越高，Ca（OH）2溶解度越小）
确保钙离子完全除去（或温度越高，Ca（OH）2溶解度越小）
．（4）BaCl2滤液经蒸发浓缩、降温结晶、过滤，再经真空干燥后得到?2H2O．实验室中蒸发浓缩用到的含硅酸盐的仪器有
3
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种．（5）为体现该工艺的绿色化学思想，该工艺中能循环利用的物质是
BaCl2溶液
BaCl2溶液
．（12分）工业上需要利用一批回收的含铜废料制造胆矾（CuSO4·5H2O）。该废料中各种成份含量如下：Cu和CuO约占87%，其它为Al、Fe、Si及其氧化物，还有少量的难溶物质。工艺流程为：
部分金属阳离子以氢氧化物形式完全沉淀时溶液的pH如下表：
| 沉淀物 | Al(OH)3 | Fe(OH)3 | Cu(OH)2 | Mg(OH)2 | Fe(OH)2 |
| pH | 5.2 | 3.1 | 6.7 | 9.4 | 9.7 |
（1）步骤①中为什么要将含铜废料研磨成粉状？
。（2）步骤⑤中H2O2参加反应的离子方程式：
。（3）步骤⑥中调节溶液pH时适宜的物质是 。（填序号）；
A．NaOH B．氨水 C．Cu2(OH)2CO3 D．Cu(OH)2 E．MgCO3
步骤⑥中滤渣成份的化学式 。
（4）步骤⑦中用硫酸调节pH＝2～3的原因是 。
（5）步骤⑧的分离操作是： , 冷却结晶, 。 查看习题详情和答案>>
（12分）工业上需要利用一批回收的含铜废料制造胆矾（CuSO4·5H2O）。该废料中各种成份含量如下：Cu和CuO约占87%，其它为Al、Fe、Si及其氧化物，还有少量的难溶物质。工艺流程为：
部分金属阳离子以氢氧化物形式完全沉淀时溶液的pH如下表：
回答：
（1）步骤①中为什么要将含铜废料研磨成粉状？
。
（2）步骤⑤中H2O2参加反应的离子方程式：
。
（3）步骤⑥中调节溶液pH时适宜的物质是 。（填序号）；
A．NaOH B．氨水 C．Cu2(OH)2CO3 D．Cu(OH)2 E．MgCO3
步骤⑥中滤渣成份的化学式 。
（4）步骤⑦中用硫酸调节pH＝2～3的原因是 。
（5）步骤⑧的分离操作是： , 冷却结晶, 。
部分金属阳离子以氢氧化物形式完全沉淀时溶液的pH如下表：
| 沉淀物 | Al(OH)3 | Fe(OH)3 | Cu(OH)2 | Mg(OH)2 | Fe(OH)2 |
| pH | 5.2 | 3.1 | 6.7 | 9.4 | 9.7 |
（1）步骤①中为什么要将含铜废料研磨成粉状？
。（2）步骤⑤中H2O2参加反应的离子方程式：
。（3）步骤⑥中调节溶液pH时适宜的物质是 。（填序号）；
A．NaOH B．氨水 C．Cu2(OH)2CO3 D．Cu(OH)2 E．MgCO3
步骤⑥中滤渣成份的化学式 。
（4）步骤⑦中用硫酸调节pH＝2～3的原因是 。
（5）步骤⑧的分离操作是： , 冷却结晶, 。