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2004年9月3日英国《自然》杂志报道，碳化硅是已知最硬的物质之一，其单晶体可制作半导体材料。但正是由于它硬度高，熔化及锻制的过程相当费劲，而且制成的晶片容易产生瑕疵，如杂质、气泡等，这些物质会严重影响或削弱电流。因此，碳化硅一直无法被用来制造芯片。日本研究人员称，他们找到了锻制碳化硅晶体的新方法，使碳化硅晶片成本低、用途广、性能更可靠。下列有关碳化硅（SiC）的有关说法错误的是
A. 晶体硅和晶体碳化硅都是原子晶体
B. 碳化硅是一种新型的无机非金属材料
C. 碳化硅的熔点比晶体硅高
D. 制取碳化硅的反应：SiO2＋3C
SiC＋2CO↑中，SiO2是氧化剂，C是还原剂
(12分)2008年9月25日我国“神七”成功发射，标志着我国载人航天技术迈出重要的一步。“神七”以N2H4和N2O4燃料，N2H4学名为肼又称联氨，无色油状液体，具有与氨相似的气味，毒性很大。
⑴水电离成H3O+和OH-叫做水的自偶电离。同水一样，N2H4也有微弱的自偶电离，其自偶电离的方程式为： 。
⑵氨显碱性的原因在于NH3分子中的N原子具有孤对电子，它能通过配位键结合水中的H+，使水电离出OH-，其过程可以表示为NH3+H2O
NH4++OH-。试问N2H4与足量盐酸反应的化学方程式： 。
⑶已知硼酸[B(OH)3]为一元弱酸，其显示酸性的原理与NH3、N2H4显示碱性的原理类似，试用离子方程式表示其显示酸性的过程： 。
⑷N2H4和N2O4反应温度达2700摄氏度，产生无污染的气体。1g 液态N2H4与足量的液态N2O4充分反应生成两种气态物质，可放出a KJ热量，试写出该反应的热化学方程式：
。
查看习题详情和答案>>⑴水电离成H3O+和OH-叫做水的自偶电离。同水一样，N2H4也有微弱的自偶电离，其自偶电离的方程式为： 。
⑵氨显碱性的原因在于NH3分子中的N原子具有孤对电子，它能通过配位键结合水中的H+，使水电离出OH-，其过程可以表示为NH3+H2O
NH4++OH-。试问N2H4与足量盐酸反应的化学方程式： 。⑶已知硼酸[B(OH)3]为一元弱酸，其显示酸性的原理与NH3、N2H4显示碱性的原理类似，试用离子方程式表示其显示酸性的过程： 。
⑷N2H4和N2O4反应温度达2700摄氏度，产生无污染的气体。1g液态N2H4与足量的液态N2O4充分反应生成两种气态物质，可放出a KJ热量，试写出该反应的热化学方程式：
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(12分)2008年9月25日我国“神七”成功发射，标志着我国载人航天技术迈出重要的一步。“神七”以N2H4和N2O4燃料，N2H4学名为肼又称联氨，无色油状液体，具有与氨相似的气味，毒性很大。
⑴水电离成H3O+和OH-叫做水的自偶电离。同水一样，N2H4也有微弱的自偶电离，其自偶电离的方程式为： 。
⑵氨显碱性的原因在于NH3分子中的N原子具有孤对电子，它能通过配位键结合水中的H+，使水电离出OH-，其过程可以表示为NH3+H2O 
NH4++OH-。试问N2H4与足量盐酸反应的化学方程式： 。
⑶已知硼酸[B(OH)3]为一元弱酸，其显示酸性的原理与NH3、N2H4显示碱性的原理类似，试用离子方程式表示其显示酸性的过程： 。
⑷N2H4和N2O4反应温度达2700摄氏度，产生无污染的气体。1g 液态N2H4与足量的液态N2O4充分反应生成两种气态物质，可放出a KJ热量，试写出该反应的热化学方程式：
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SiC+2CO↑中，SiO2是氧化剂，C是还原剂