【题目】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500 ℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

物质

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸点/℃

57.7

12.8

315

熔点/℃

-70.0

-107.2

升华温度/℃

180

300

162

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式:____________________________

(2)装置A中g管的作用是______________;装置C中的试剂是____________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是____________(填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式为5Fe2++MnO+8H===5Fe3++Mn2++4H2O。

①滴定前是否要滴加指示剂?________(填“是”或“否”),请说明理由:

____________________________________________________________

②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×10-2 mol· L-1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是________

【题目】某研究性小组借助AD的仪器装置完成有关实验。

(实验一)收集NO气体。

1)用装置A收集NO气体,正确的操作是________(填序号)

a.从口进气,用排水法集气 b.从口进气,用排气法集气

c.从口进气,用排水法集气 d.从口进气,用排气法集气

(实验二)为了探究镀锌薄铁板上的锌的质量分数ω(Zn)和镀层厚度,查询得知锌易溶于强碱:Zn2NaOHNa2ZnO2H2。据此,截取面积为S的双面镀锌薄铁板试样,剪碎、称得质量为m1g。用固体烧碱和水作试剂,拟出下列实验方案并进行相关实验。

方案甲:通过测量试样与碱反应生成的氢气体积来实现探究目标。

2)选用B________(填仪器标号)两个装置进行实验。

3)测得充分反应后生成氢气的体积为VL(标准状况)ω(Zn)________

4)计算镀层厚度,还需要检索的一个物理量是________

5)若装置B中的恒压分液漏斗改为普通分液漏斗,测量结果将________(偏大偏小无影响”)

方案乙:通过称量试样与碱反应前后的质量实现探究目标。选用仪器C做实验,试样经充分反应,滤出不溶物、洗涤、烘干,称得其质量为m2g

6ω(Zn)____________

方案丙:通过称量试样与碱反应前后仪器、试样和试剂总质量(其差值即为H2的质量)实现探究目标。实验同样使用仪器C

7)从实验误差角度分析,方案丙________方案乙(优于劣于等同于”)

 0  201900  201908  201914  201918  201924  201926  201930  201936  201938  201944  201950  201954  201956  201960  201966  201968  201974  201978  201980  201984  201986  201990  201992  201994  201995  201996  201998  201999  202000  202002  202004  202008  202010  202014  202016  202020  202026  202028  202034  202038  202040  202044  202050  202056  202058  202064  202068  202070  202076  202080  202086  202094  203614 

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