题目内容
【题目】由二氧化硅制高纯硅的流程如下,下列判断中错误的是( )
A. SiHCl3摩尔质量为135.5 g B. H2和HCl均可循环利用
C. SiO2是一种坚硬难熔的固体 D. ①②③均属于氧化还原反应
【答案】A
【解析】
A.SiHCl3摩尔质量为135.5g/mol,故A错误;
B.由生产高纯硅的流程示意图可知,H2和HCl既是反应物,又是生成物,所以可重复利用的物质是H2和HCl,故B正确;
C.SiO2是原子晶体,硬度大、熔点高,故C正确;
D.反应①为SiO2+2CSi+2CO↑,反应②Si(粗)+3HClSiHCl3+H2,反应③SiHCl3+H2Si(粗)+3HCl,三个方程式中元素的化合价均发生变化,均属于氧化还原反应,故D正确;
答案选A。
练习册系列答案
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【题目】下列关于纯净物、混合物、电解质、非电解质的正确组合为( )
纯净物 | 混合物 | 电解质 | 非电解质 | |
A | 盐酸 | 水煤气 | 硫酸 | 干冰 |
B | 蒸馏水 | 蔗糖溶液 | 氧化铝 | 二氧化硫 |
C | 胆矾 | 盐酸 | 铁 | 碳酸钙 |
D | 胆矾 | 水煤气 | 氯化铜 | 碳酸钠 |
A.AB.BC.CD.D