题目内容
【题目】合成氨反应：N2(g）+3H2(g）
2NH3(g）△H= - 92.4kJmol-1，在反应过程中，正反应速率的变化如图．下列说法不正确的是( )
A. t1时增大了压强
B. t2时使用了催化剂
C. t3时降低了温度
D. t4时从体系中分离出部分氨气
【答案】C
【解析】
A．由图像可知，t1时正反应速率增大，然后减小，化学平衡正向移动，该反应为气体体积缩小的反应，则应增大压强，故A正确；B．t2时，反应速率增大，平衡不移动，则为使用了催化剂，故B正确；C．t3时正反应速率减小，然后增大，化学平衡逆向移动，该反应为放热反应，则不是降温，应为减小压强，故C错误；D．t4时刻，正反应速率逐渐碱性，平衡正向移动，说明从体系中分离出了部分氨气，故D正确；故选C。
全能测控一本好卷系列答案【题目】(1)已知反应 2HI(g)
H2(g)+I2(g)的 ΔH＝+11kJ/mol， 1mol H2(g)、 1mol I2(g)分子中化学键断裂时分别需要吸收436kJ、151kJ的能量，则1mol HI(g)分子中化学键断裂时需吸收的能量为_________kJ。
(2)Bodensteins 研究了下列反应：2HI(g) H2(g)+I2(g)在 716 K 时，气体混合物中碘化氢的物质的量分数 x(HI)与反应时间 t 的关系如下表：
t/min | 0 | 20 | 40 | 60 | 80 | 120 |
x(HI) | 1 | 0.91 | 0.85 | 0.815 | 0.795 | 0.784 |
x(HI) | 0 | 0.60 | 0.73 | 0.773 | 0.780 | 0.784 |
①根据上述实验结果，该反应的平衡常数K的计算式为__________。
②上述反应中，正反应速率为v正＝k正x2(HI)，逆反应速率为v逆＝k逆x(H2)x(I2)，其中k正、k逆为速率常数，则k逆为__________(以K和k正表示)。若 k正＝0.0027 min－1，在 t＝40min 时，v正＝_________ min－1。
③由上述实验数据计算得到v正～x(HI)和 v逆～x(H2)的关系如图所示。当升高到某一温度时，反应重新达到平衡，相应的点依次为__________(填字母)和__________(填字母)。
【题目】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500 ℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下：
a．四氯化硅遇水极易水解；
b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c．有关物质的物理常数见下表：
物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | － | 315 | － |
熔点/℃ | －70.0 | －107.2 | － | － | － |
升华温度/℃ | － | － | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题：
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式：______________________________。
(2)装置F的名称是___________________；装置C中的试剂是_____________；装置E中的h瓶需要冷却的理由是_____________________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是____(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2＋，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式为5Fe2＋＋MnO4-＋8H＋==5Fe3＋＋Mn2＋＋4H2O。
①滴定前是否要滴加指示剂？________(填“是”或“否”)。
②某同学称取5.000 g残留物，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10－2 mol· L－1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是_____________
