题目内容
在下列物质的转化关系中，A是一种固体单质，且常作半导体材料，E是一种白色沉淀，F是最轻的气体单质。
据此填写：(1)B的化学式是 ，目前在现代通讯方面B已被用作 的主要原料。
(2)B和a溶液反应的离子方程式是 。
(3)A和a溶液反应的离子方程式是 。
(4)C和过量盐酸反应的离子方程式是 。
(1)SiO2 制光导纤维
(2)SiO2＋2OH－=SiO32-＋H2O
(3)Si＋2OH－＋H2O=SiO32-＋2H2↑
(4)SiO32-＋2H＋=H2SiO3↓
解析
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硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础。回答下列问题：
（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号 ，该能层具有的原子轨道数为 、电子数为 。
（2）硅主要以硅酸盐、 等化合物的形式存在于地壳中。
（3）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以 相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献 个原子。
（4）单质硅可通过甲硅烷(SiH4)分解反应来制备。工业上采用Mg2Si和NH4CI在液氨介质中反应制得SiH4，该反应的化学方程式为 。
（5）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：
| 化学键 | C-C | C-H | C-O | Si-Si | Si-H | Si-O |
| 键能（KJ/mol） | 356 | 413 | 336 | 226 | 318 | 452 |
②SiH4的稳定性小于CH4，更易生成氧化物，原因是 。
（6）在硅酸盐中，SiO44－四面体（如下图a）通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式。图b为一种无限长单链结构的多硅酸根；其中Si原子的杂化形式为 。Si与O的原子数之比为 化学式为 。
下表是实验室制备气体的有关内容：
| 编号 | 实验内容 | 实验原理 | 气体发生装置 |
| ① | 制氧气 | H2O2―→O2 | |
| ② | 制氨气 | NH4Cl―→NH3 | |
| ③ | 是氯气 | HCl―→Cl2 | |
(1)上表气体中：从制备过程看，必须选择合适的氧化剂才能实现的是________(填气体的化学式，下同)；从反应原理看，明显不同于其他两种气体的是________。
(2)根据表中所列实验原理，从下列装置中选择合适的气体发生装置，将其编号填入上表中的空格中。
(3)若用上述制备O2的装置制备NH3，则选择的试剂为________________。
(4)制备Cl2需用8 mol·L－1的盐酸100 mL，现用12 mol·L－1的盐酸来配制。
①为提高配制的精确度，量取浓盐酸的仪器可选用下列中的________(填序号)：
②配制过程中，除上图所列仪器外，还需要的仪器有________、________、________。
LaNi5H6(s)ΔH＝－31.77 kJ·mol－1。
Si3N4＋6CO。Si3N4属于________晶体，在上述反应中氧化剂为________。