题目内容
3．用量筒量取液体时，某同学操作如下：量筒放平稳，面对刻度，俯视液体凹液面最低处读数为20mL，倾倒出一部分液体，又仰视液体凹液面最低处读数为10ml．这位学生取出液体的实际体积为（ ）| A． | 小于10mL | B． | 10mL | C． | 大于10mL | D． | 无法判断 |
分析 根据量筒的使用方法和仰视和俯视产生误差的具体情况进行解题，俯视读数偏高，仰视读数偏低．
解答 解：俯视液体，看到的读数偏大，但量取的实际体积正好偏小，由俯视液体凹液面最低处，读数为20mL，实际比20mL小；仰视液体，看到的读数偏小，但量取的实际液体偏大，仰视液体凹液面的最低处读数为10mL，实际大于10mL，所以取出液体的体积小于10mL．
故选A．
点评 本题考查常见仪器的使用，读数时不能仰视或俯视，视线要与凹液面最低处保持水平；如果仰视或俯视读数时利用假设数值的方法进行解答．
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O和Cu2O。某学习小组取0．98g（用精密天平测量）Cu（OH）2固体加热，有铜的氧化物生成，其质量随温度变化如图1所示：另外，某同学绘制了三条表示金属氧化物与其所含金属元素的质量的关系曲线，如图2所示。则下列分析正确的是
，直接注入标准酸液进行滴定
8．晶体硅是一种重要的半导体材料，工业上晶体硅的制备流程如下：
石英$→_{高温}^{①}$粗硅$→_{450-500℃}^{②Cl_{2}}$$\stackrel{③精馏}{→}$高纯SiCl4$→_{高温}^{④H_{2}}$高纯硅
在高温条件下，粗硅中的杂质硼、铝、铁、磷等均能与氯气直接反应生成相应的氯化物．
有关物质物理性质：
请回答下列问题：
（1）写出工业上获得粗硅的化学方程式：2C+SiO2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO↑．
（2）通过精馏（类似多次蒸馏）可得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的元素是Al、P（填写元素符号）．
（3）用SiCl4与过量干燥的H2反应制备纯硅，为保证制备纯硅实验的成功，除控制好反应温度外，还需确保实验装置中不能混入空气，原因是氢气与氧气爆炸，硅和氧气高温反应．
石英$→_{高温}^{①}$粗硅$→_{450-500℃}^{②Cl_{2}}$$\stackrel{③精馏}{→}$高纯SiCl4$→_{高温}^{④H_{2}}$高纯硅
在高温条件下，粗硅中的杂质硼、铝、铁、磷等均能与氯气直接反应生成相应的氯化物．
有关物质物理性质：
| 物 质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
| 沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
| 熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
| 升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
（1）写出工业上获得粗硅的化学方程式：2C+SiO2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO↑．
（2）通过精馏（类似多次蒸馏）可得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的元素是Al、P（填写元素符号）．
（3）用SiCl4与过量干燥的H2反应制备纯硅，为保证制备纯硅实验的成功，除控制好反应温度外，还需确保实验装置中不能混入空气，原因是氢气与氧气爆炸，硅和氧气高温反应．
15．对于反应2X（g）+Y（g）?2Z（g）下列说法正确的是（ ）
| A． | 由于K=$\frac{{c}^{2}（Z）}{{c}^{2}（X）•c（Y）}$，随着反应的进行，Z的浓度不断增大，X、Y的浓度不断减小，平衡常数不断增大 | |
| B． | 当温度不变时，增大反应物的浓度，使K变小；增大生成物的浓度，使K增大 | |
| C． | 增大压强，K值一定增大 | |
| D． | 温度发生变化时，上述的K 的值也发生变化 |
12．把0.05mol醋酸分别加入到下列100mL溶液中，溶液的导电能力变化最明显的（ ）
| A． | 0.5 mol/L NaOH溶液 | B． | 0.5 mol/L盐酸 | ||
| C． | 0.5 mol/L NH4Cl溶液 | D． | 0.5 mol/L氨水 |
13．下列说法中，正确的是（ ）
| A． | 标准状况下，22.4L就是气体摩尔体积 | |
| B． | 标准状况下，22.4L任何物质都含有大约6.02×1023个分子 | |
| C． | 非标准状况下，1mol任何气体的体积不可能为22.4L | |
| D． | 1mol氢气和氧气的混合气体在标准状况下的体积约为22.4L |