题目内容
（12分）下图中A～J分别代表相关反应中的一种物质，已知A分解得到等物质的量的B、C、D，已知B、D为常温下的气态化合物，C为常温下的液态化合物，图中有部分生成物未标出。
请填写以下空白：
（1）A的化学式为 ，B的电子式为 。
（2）写出下列反应的化学方程式：
D+G→H 。
F+J→B+C+I 。
（3）0．3 mol I与足量C反应转移电子的物质的量为 mol。
（4）容积为10 mL的试管中充满I和G的混合气体，倒立于盛水的水槽中，水全部充满试管，则原混合气体中I与G的体积分别为 mL， mL。
(1) NH4HCO3(2分)，
(2分)
（2）4NH3＋5O2
4NO+6H2O (2分) C+4HNO3(浓)
=CO2↑+4NO2↑+2H2O(2分)
（3）0.2（2分）
（4）8（1分）2（1分）
解析试题分析：（1）已知A分解得到等物质的量的B、C、D，分析反应特点判断A是碳酸氢铵，化学式为NH4HCO3，镁条在B中燃烧，说明B是二氧化碳，则B的电子式为
；
（2）铵盐与碱共热得D为氨气，过氧化钠与水反应生成G氧气，所以氨气与氧气的催化氧化反应的化学方程式为4NH3＋5O24NO+6H2O ；J为硝酸，F为碳单质，所以F+J→B+C+I的化学方程式为C+4HNO3(浓)=CO2↑+4NO2↑+2H2O（2分）;
(3)I为NO2，与水的反应:3NO2+H2O=2HNO3+NO既作氧化剂又作还原剂，所以0.3mol的NO2与水的反应中转移电子的物质的量是0.2mol，
（4）NO2与O2恰好反应时物质的量之比是4:1，所以10mL混合气体中有8mL NO2，2mL O2
考点：考查物质推断，电子式、化学方程式的书写，氧化还原反应的计算
硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础。回答下列问题：
（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号 ，该能层具有的原子轨道数为 、电子数为 。
（2）硅主要以硅酸盐、 等化合物的形式存在于地壳中。
（3）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以 相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献 个原子。
（4）单质硅可通过甲硅烷(SiH4)分解反应来制备。工业上采用Mg2Si和NH4CI在液氨介质中反应制得SiH4，该反应的化学方程式为 。
（5）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：
| 化学键 | C-C | C-H | C-O | Si-Si | Si-H | Si-O |
| 键能（KJ/mol） | 356 | 413 | 336 | 226 | 318 | 452 |
②SiH4的稳定性小于CH4，更易生成氧化物，原因是 。
（6）在硅酸盐中，SiO44－四面体（如下图a）通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式。图b为一种无限长单链结构的多硅酸根；其中Si原子的杂化形式为 。Si与O的原子数之比为 化学式为 。
下表是实验室制备气体的有关内容：
| 编号 | 实验内容 | 实验原理 | 气体发生装置 |
| ① | 制氧气 | H2O2―→O2 | |
| ② | 制氨气 | NH4Cl―→NH3 | |
| ③ | 是氯气 | HCl―→Cl2 | |
(1)上表气体中：从制备过程看，必须选择合适的氧化剂才能实现的是________(填气体的化学式，下同)；从反应原理看，明显不同于其他两种气体的是________。
(2)根据表中所列实验原理，从下列装置中选择合适的气体发生装置，将其编号填入上表中的空格中。
(3)若用上述制备O2的装置制备NH3，则选择的试剂为________________。
(4)制备Cl2需用8 mol·L－1的盐酸100 mL，现用12 mol·L－1的盐酸来配制。
①为提高配制的精确度，量取浓盐酸的仪器可选用下列中的________(填序号)：
②配制过程中，除上图所列仪器外，还需要的仪器有________、________、________。
8SO2+2Fe2O3,该反应中被氧化的元素是 (填元素符号)。当该反应转移2.75 mol电子时,生成的二氧化硫在标准状况下的体积为 L。 
