题目内容

【题目】NA表示阿伏加德罗常数的值,下列叙述正确的是(

A.24 g NaH中阴离子所含电子总数为NA

B.标准状况下,22.4 L苯中含有C—H键数目为6NA

C.在碳酸钠溶液中,c(CO32-)=1mol/L,则c(Na+)=2mol/L

D.通过MnO2催化使H2O2分解,产生32 g O2时转移电子数为2NA

【答案】D

【解析】

A.24 g NaH1 mol NaH中阴离子所含的电子数为2NAA错误;

B.标准状况下,苯不是气体,无法计算22.4 L苯中含有的CH键数目,B错误;

C.碳酸钠溶液中,因CO32-水解,故当c(CO32-)=1mol/L时,c(Na+)>2 mol/LC错误;

D.由方程式2H2O22H2O+O2可知,生成32 g O2(1 mol O2)时转移的电子数为2NAD正确;

答案选D

练习册系列答案
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【题目】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500 ℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

物质

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸点/℃

57.7

12.8

315

熔点/℃

-70.0

-107.2

升华温度/℃

180

300

162

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式:____________________________

(2)装置A中g管的作用是______________;装置C中的试剂是____________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是____________(填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式为5Fe2++MnO+8H===5Fe3++Mn2++4H2O。

①滴定前是否要滴加指示剂?________(填“是”或“否”),请说明理由:

____________________________________________________________

②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×10-2 mol· L-1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是________

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