题目内容

4.已知①Na2SiO3+CO2+H2O=Na2CO3+H2SiO3↓②Na2CO3+SiO2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$NaSiO3+CO2↑ 下列有关说法不正确是(  )
A.反应①是熵减小的反应,而反应②是熵增大的反应
B.反应②高温时能自发迸行.是由于生成CO2使熵值增大
C.上述事实说明的H2SiO3酸性有时比H2CO3强,有时比H2CO3
D.H2CO3酸性强于H2SiO3,不能用反应②进行解释

分析 A.有气体生成的,气体系数增大的反应属于熵增加的反应;
B.放热有利于反应自发进行,熵增加有利于反应自发进行;
C.常温下,水溶液中强酸能制取弱酸;
D.强酸能制取弱,比较酸性强弱,应在水溶液中进行.

解答 解:A.反应①气体系数减小,是熵减小的反应;反应②生成气体,属于熵增加的反应,故A正确;
B.反应②特点是△H>0,△S>0的反应,高温时能自发迸行,是由于生成CO2使熵值增大,故B正确;
C.高温下SiO2能与Na2CO3固体反应生成Na2SiO3和CO2,不是在常温下进行,且不是在水溶液中进行,不能说明硅酸的酸性强于碳酸,故C错误;
D.Na2CO3+SiO2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$NaSiO3+CO2↑是在高温下进行的反应,不能体现酸性的强弱,所以H2CO3酸性强于H2SiO3,不能用反应②进行解释,故D正确;
故选C.

点评 本题考查了反应焓变、熵变与反应自发进行的关系,碳酸与硅酸酸性强弱的比较,熟悉反应自发进行判断依据是解题关键,题目难度中等.

练习册系列答案
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5.请回答以下有关硝基苯、乙烯等实验室制法及性质的有关问题.
I.实验室制备硝基苯的主要步骤如下:
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(2)向室温下的混合酸中逐滴加入一定量的苯,充分振荡,混合均匀.
(3)在 50℃~60℃下发生反应常采用水浴加热.
(4)除去混合酸后,粗产品需进一步精制,下面操作正确的顺序为C.
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A.②④③①⑤B.⑤③①②④C.②④⑤③①D.④⑤③①②
(5)硝基苯不属于(填“属于”、“不属于”)烃,官能团是-NO2(写结构简式)
Ⅱ.为了探究乙烯与溴水的反应是加成而不是取代反应,某同学设计如下实验,请你帮助完成:
①测定溴水的pH    
②将纯净的乙烯通入溴水中至溶液完全褪色③测定反应后溶液的pH值.
若pH值会略有增大或接近7,则反应为加成反应.
Ⅲ.下列有关实验的叙述正确的是AE.
A.石油的蒸馏实验中,加入碎瓷片可防止油在蒸馏时发生暴沸
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D.在淀粉溶液中加入少量稀硫酸,加热后,再加入少量新制的氢氧化铜悬浊液,加热至沸腾,无砖红色沉淀生成,说明淀粉未水解
E.乙醇可使酸性高锰酸钾溶液或酸性重铬酸钾溶液变色.
12.(一)最近雾霾天气又开始肆虐我国大部分地区.其中SO2是造成空气污染的主要原因,利用钠碱循环法可除去SO2
(1)钠碱循环法中,吸收液为Na2SO3溶液,该吸收反应的离子方程式是SO32-+SO2+H2O=2HSO3-
(2)已知H2SO3的电离常数为 K1=1.54×10-2,K2=1.02×10-7,H2CO3的电离常数为 K1=4.30×10-7,K2=5.60×10-11,则下列微粒可以共存的是BC.
A.CO32-、HSO3-    B.HCO3-、HSO3-
C.SO32-、HCO3-D.H2SO3、HCO3-
(二)我国是世界上发现和使用铜及铜器最早的国家之一,直到现在铜及其化合物在工农业生产中仍然有着广泛的应用.
(3)常温下Cu2O能溶于稀硫酸,得到蓝色溶液和红色固体,可以利用该性质检验工业上冶炼铜得到的粗铜中是否含有Cu2O,写出此反应的离子方程式Cu2O+2H+=Cu+Cu2++H2O.
(4)刻蚀印刷电路的废液中含有大量的CuCl2、FeCl2、FeCl3,任意排放将导致环境污染和资源的浪费,为了使FeCl3循环利用和回收CuCl2,现设计如下生产过程:

①试剂Y的名称盐酸;物质X可以是CuO(填化学式).
②若常温下1L废液中含CuCl2、FeCl2、FeCl3的物质的量浓度均为0.5mol•L-1,则加入Cl2气和物质X使溶液的pH在3.0~4.3 范围时(设溶液体积保持不变),铁元素完全转化为Fe(OH)3,而CuCl2不产生沉淀.(某离子的浓度小于1.0×10-5mol•-1时,认为该离子沉淀完全)( KSP[Fe(OH)3]=1.0×10-38、KSP[Cu(OH)2]=2.0×10-20、lg5=0.7)
(三)CO2可用NaOH溶液吸收得到Na2CO3或NaHCO3
(5)Na2CO3俗称纯碱,解释其水溶液呈碱性的原因,用离子方程式表示CO32-+H2O?HCO3-+OH-,该溶液中c(OH-)-c(H+)=c(HCO3- )+2c(H2CO3)[用含c(HCO-3)、c(H2CO3)的关系式表示]
(6)已知25℃时,Na2CO3溶液的水解常数为Kb=2×10-4,则当溶液中c(HCO3-):c(CO32-)=2:1时,试求溶液的pH=10.
10.硅单质及其化合物应用范围很广.制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如图1:

(1)第①步制备粗硅的化学方程式为SiO2+2C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO↑.第④步由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式为SiHCl3+H2$\frac{\underline{\;1357K\;}}{\;}$Si+3HCl.
(2)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如图2所示(热源及夹持装置均已略去):

①装置B中的试剂是浓硫酸,装置C中的烧瓶需要加热,其目的是使滴入烧瓶中的SiHCl3汽化.
②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是有固体物质生成,装置D不能采用普通玻璃管的原因是在此反应温度下,普通玻璃会软化.
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(3)下列有关硅材料的说法正确的是A、B、C(填字母).
A.碳化硅硬度大,可用于生产砂纸、砂轮等
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
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E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅.

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