题目内容
【题目】设NA为阿伏伽德罗常数的数值，下列说法正确的是（ ）
A.23gNa与足量H2O反应完全后失去2NA个电子
B.1molCu和足量热浓硫酸反应可生成NA个SO3分子
C.标准状况下，22.4LN2和H2混合气中含2NA个原子
D.3mol单质Fe完全转变为Fe3O4 ， 失去9NA个电子
【答案】C
【解析】解：A、23g钠的物质的量为1mol，而反应后钠元素变为+1价，故1mol钠失去1mol电子即NA个，故A错误；
B、铜与浓硫酸反应生成二氧化硫，而非三氧化硫，故B错误；
C、标况下22.4L混合气体的物质的量为1mol，而氮气和氢气为双原子分子，故1mol混合物中含2mol电子即2NA个，故C正确；
D、铁生成四氧化三铁后，变为+ 
价，故3mol铁失去8mol电子即8NA个，故D正确．
故选C．
【题目】工业上可用粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3：Si+3HCl=SiHCl3+H2，SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅。
有关物质的物理常数见下表：
物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | SiHCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | 33.0 | — |
熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | -126.5 | — |
升华温度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
（1）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3中含有少量SiCl4，提纯SiHCl3可采用
___________的方法
（2）实验室也可用SiHCl3与过量干燥的H2反应制取纯硅，装置如下图所示（加热和夹持装置略去）：
①装置B中的试剂是___________，装置C需水浴加热，目的是 ____________________。
②反应一段时间后，装置D中可观察到有晶体硅生成，装置D不能采用普通玻璃管的原因是_____________。