Question

【题目】工业上可用粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3：Si+3HCl=SiHCl3+H2，SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅。

有关物质的物理常数见下表：

物质	SiCl4	BCl3	AlCl3	FeCl3	SiHCl3	PCl5
沸点/℃	57.7	12.8	—	315	33.0	—
熔点/℃	-70.0	-107.2	—	—	-126.5	—
升华温度/℃	—	—	180	300		162

（1）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3中含有少量SiCl4，提纯SiHCl3可采用

___________的方法

（2）实验室也可用SiHCl3与过量干燥的H2反应制取纯硅，装置如下图所示（加热和夹持装置略去）：

①装置B中的试剂是___________，装置C需水浴加热，目的是 ____________________。

②反应一段时间后，装置D中可观察到有晶体硅生成，装置D不能采用普通玻璃管的原因是_____________。

Answer 1

【答案】 蒸馏 浓硫酸 使SiHCl3气化，与氢气反应 SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅，温度太高，普通玻璃管易熔化

【解析】(1)根据题示的数据可知，可以利用沸点的不同提纯SiHCl3，操作为蒸馏，故答案为：蒸馏；

(2)①生成的氢气中含有水蒸气，进入装置D之前需要干燥，装置B中的试剂可以干燥氢气，浓硫酸是常用的干燥剂，因此装置B中的试剂是浓硫酸，装置C需水浴加热，目的是使SiHCl3汽化，在D中与氢气反应，故答案为：浓硫酸；使SiHCl3气化，与氢气反应；

②SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅，温度太高，普通玻璃管易熔化，故答案为：SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅，温度太高，普通玻璃管易熔化。