Question

【题目】下列离子方程式中正确的是 ( )

A．工业上粗硅的制备：SiO2＋CSi+CO2↑

B．Cu2O与稀H2SO4反应：Cu2O＋2H+=2Cu+＋H2O

C．用稀硝酸洗涤试管内壁的银镜：3Ag+4H++NO3－=3Ag++NO↑+2H2O

D.向Mg(HCO3)2溶液中加足量烧碱溶液:Mg2＋+2HCO3－+2OH－=MgCO3↓+2H2O+CO32－

Answer 1

【答案】C

【解析】

试题分析：A．工业上粗硅的制备需要在高温下进行，反应生成一氧化碳，故A错误；B．溶液中Cu+不稳定，发生歧化反应生成铜和铜离子，故B错误；C．用稀硝酸洗涤试管内壁的银镜反应生成硝酸银和一氧化氮气体，故C正确；D.向Mg(HCO3)2溶液中加足量烧碱溶液反应生成氢氧化镁沉淀，故D错误；故选C。