题目内容

【题目】化合物M是二苯乙炔类液晶材料的一种,最简单的二苯乙炔类化合物是。以互为同系物的单取代芳烃AG为原料合成M的一种路线(部分反应条件略去)如下:

回答下列问题:

1A的结构简式为_______

2D分子中最多有_____个碳原子共平面,与D化学式相同且符合下列条件的同分异构体有__种。(①与D具有相同的官能团,②苯环上的三元取代物)

3)①的反应类型是________

4)⑤的化学方程式为________

5)参照上述合成路线,设计一条由苯乙烯和甲苯为起始原料制备的合成路线:______________

【答案】 10 6 取代反应

【解析】

AG是互为同系物的单取代芳烃,由B的结构可知反应①为取代反应,AB发生还原反应生成CD能与溴的四氯化碳反应生成EE在氢氧化钾、乙醇条件下反应得到F,可知E为卤代烃,D含有不饱和键,故反应③为消去反应,则DEF,由M的分子式可知,反应⑦属于取代反应,M的结构简式为AG是互为同系物的单取代芳烃,结合反应⑥的产物可知G。据此分析解答。

(1)根据上述分析,A,故答案为:

(2)D,苯环为平面结构、碳碳双键为平面结构,碳碳单键可以旋转,使2个平面共面,即分子中所有的碳原子都可能共面,分子中最多有10个碳原子共平面。D的同分异构体与D具有相同的官能团且为苯环上的三元取代物,苯环上的取代基为:-CH3-CH3-CH=CH22个甲基有邻、间、对3种位置结构,对应的-CH=CH2分别有2种、3种、1种位置,故符合条件的同分异构体共有2+3+1=6种,故答案为:106

(3)根据上述分析,反应①为取代反应,故答案为:取代反应;

(4)反应⑤为卤代烃的消去反应,反应的化学方程式为:,故答案为:

(5)以苯乙烯和甲苯为起始原料制备。根据题干流程图,需要合成;合成,可以由苯乙烯与溴发生加成反应得到,再在KOH/乙醇条件下发生消去反应生成;合成,可以通过甲苯在I2/HIO3CH3COOH/H2SO4条件下反应得到,最后发生取代反应得到,合成路线为:,故答案为:

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