题目内容

【题目】把镁条直接投入到盛有盐酸的敞口容器中,产生H2的速率如图所示,

在下列因素中,影响反应速率的因素是

盐酸的浓度 镁条的表面积 溶液的温度 ④Cl的浓度

A. ①④B. ③④C. ①②③D. ②③

【答案】C

【解析】

镁条与盐酸反应离子方程式为Mg+2H+═Mg2++H2。由图可知,产生H2速率先增大后减小。

①开始盐酸的浓度较大,反应速率快,但随反应的进行,浓度减小,则反应速率减小,故①正确;
②由反应可知Mg参加反应,开始接触面积大,反应速率快,但随反应的进行,接触面积减小,则反应速率减小,故②正确;
③因该反应为放热反应,放热使温度升高,则反应速率加快,故③正确;
④因Cl-实质上不参加反应,Cl-的浓度增大或减小都不影响化学反应速率,且该反应中Cl-的浓度不变,故④错误;故C正确。

答案选C

练习册系列答案
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【题目】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450500 ),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

物质

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸点/

57.7

12.8

315

熔点/

70.0

107.2

升华温度/

180

300

162

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式:______________________________

(2)装置F的名称是___________________;装置C中的试剂是_____________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是_____________________________________

(3)装置Eh瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是____(填写元素符号)

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式为5Fe2MnO4-8H==5Fe3Mn24H2O

①滴定前是否要滴加指示剂?________(”)

②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×102 mol· L1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是_____________

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